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離子濺射儀

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離子濺射儀

離子濺射儀概述

離子濺射儀是一款結構緊湊的桌上型鍍膜系統,特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。離子濺射鍍膜要求試樣干燥清潔。為了使試樣表面清潔,必要時將試樣與陰極換位,利用火花放電清潔表面。然后試樣復原,再進行濺射鍍膜。離子濺射儀常用的反應氣體為氧氣,常用的陰極材料有鐵、鎳、銅鉛等,有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬。
三靶射頻磁控濺射鍍膜儀

三靶射頻磁控濺射鍍膜儀

品牌:合肥科晶
型號:VTC-3RF
等離子薄膜濺射儀

等離子薄膜濺射儀

品牌:合肥科晶
型號:GSL1100X-SPC-12
意力博通濺射儀ETD-800

意力博通濺射儀ETD-800

品牌:世友創業
型號:ETD-800
電鏡專用高真空鍍碳儀

電鏡專用高真空鍍碳儀

品牌:Cressington
型號:Cresstington 108C
日立離子濺射儀 MC1000

日立離子濺射儀 MC1000

品牌:日本日立
型號:MC1000
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離子濺射儀解決方案

離子濺射儀產品文章

離子濺射儀產品列表
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ETD-2000C離子濺射蒸發儀

ETD-2000C離子濺射蒸發儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-2000C
  • 產地:北京
  • ETD-2000C既有濺射功能,同時也具備熱蒸發功能,一機多用,轉換方便,經濟實惠。

微型高真空磁控濺射儀

微型高真空磁控濺射儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-600MS
  • 產地:
  • ETD-600MS微型磁控濺射儀是我公司研發生產的一款經濟實用袖珍型鍍膜設備,更適合各科研及教育機構實驗室的中試需求。配置參數如下:儀器尺寸:480mmWx320mmDx240H工作腔室:硼硅酸鹽玻璃180mmDx200mmH真空系統:渦輪分子泵,抽速為80L/s,前級機械泵抽速為2L/s帶防反油電磁閥及油污過濾器真空測量:采用復合真空計檢測真空極限真空度:優于5X10-4Pa工作真空度:5X10-1Pa(濺射真空度手動調節)濺射工作氣體:氬氣工作電壓:0-800V濺射電流:0-500mA電源:230V/50Hz(包括泵最大電流為6安培)靶材:D60-80mm多種弱磁靶選配項:氣體質量流量計,冷水機,可根據用戶要求進行功能改裝

Q150V Plus超高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀

Q150V Plus超高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀

  • 品牌: 英國Quorum
  • 型號: Q150V Plus
  • 產地:英國
  • 產品簡介Q150V Plus超高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀Q150V Plus為高真空鍍膜應用做了優化設計,極限真空度可達1x10-6mbar。結合潘寧規和皮拉尼規的使用,可以使易被氧化的金屬形成超小尺寸的顆粒,以實現高分辨率成像。高真空腔室也可以將氮氣,氧氣和水完全除去,避免在濺射過程中因化學反應導致雜質和缺陷形成。較低的濺射速率還可獲得高純度和高密度的無定型碳膜。產品特點1. 極限真空度可達1x10-6mbar2. 新的LED狀態指示燈3. 16G內存可以存儲1000個以上條件設置記錄4. 新軟件允許多用戶界面設置5. 新的電容觸摸屏設計

Q150T ES PLUS 高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀

Q150T ES PLUS 高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀

  • 品牌: 英國Quorum
  • 型號: Q150T ES PLUS
  • 產地:英國
  • Q150T ES PLUS集成了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空鍍膜方式。濺射插入頭裝有磁控系統,可使濺射處理期間產生的高能電子偏轉,從而遠離樣品,這有助于創建必要的冷濺射環境以消除熱影響,且確保濺射成膜中的精細顆粒結構;碳棒蒸發插入頭采用穩定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發方式,確保源自碳棒或碳絲的可重復蒸碳。

Q150R ES PLUS 離子濺射/碳蒸發一體化鍍膜儀

Q150R ES PLUS 離子濺射/碳蒸發一體化鍍膜儀

  • 品牌: 英國Quorum
  • 型號: Q150R ES PLUS
  • 產地:英國
  • Q150R ES PLUS標配可互換的濺射插入頭及碳絲蒸鍍插入頭,集兩種功能于一體。濺射插入頭裝有磁控系統,可使濺射處理期間產生的高能電子偏轉,從而遠離樣品。這有助于創建必要的冷濺射環境以消除熱影響,且確保濺射成膜中的精細顆粒結構;碳絲蒸鍍插入頭采用功能強大、無紋波直流電源,蒸發電流可控,確保可重復的碳蒸鍍膜。自動蒸發源擋板可在鍍膜循環的除氣期間保護樣品。快速、易更換的3.05mm直徑碳棒蒸發插入頭作為可選,用于需要減慢速度但可控性更好的蒸發過程。

日立離子濺射儀 MC1000

日立離子濺射儀 MC1000

  • 品牌: 日立
  • 型號: MC1000
  • 產地:日本
  • 產品簡介日立離子濺射儀 MC1000日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術公司自行設計制造,針對掃描電鏡的精細高端需求而設計,適合微觀結構較復雜的樣品,尤其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。主要特點:1.      操作方便且有記憶功能,首創LCD觸摸屏控制技術,可存儲五種處理方案;2.      通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡,從而使鍍層更均勻;3.      通過選配測量單元可實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。 應用領域:離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

ETD-800 全自動小型離子濺射儀 博遠微納

ETD-800 全自動小型離子濺射儀 博遠微納

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-800
  • 產地:北京
  • ETD-800 型全自動等離子濺射儀外觀亮麗做工精致,機箱大小僅有310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型離子濺射儀是專門為掃描電子顯微鏡用戶設計的全自動鍍膜設備;操作簡便,放入樣品后可一鍵搞定;數字式計數器滿足精準定時要求,特別適用對膜顆粒大小要求高的場發射掃描電子顯微鏡;膜厚均勻穩定;

ETD-900 小型離子濺射儀

ETD-900 小型離子濺射儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-900
  • 產地:北京
  • TD-900 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致,離子濺射儀,噴金儀旋鈕式定時器檔位清晰,手感舒適;特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩大氣,具有歐洲典雅風范;前面板上的微泄漏氣閥門可以連接多種氣體;調節濺射電流大小,成膜速度快,質量好;功能控制和定時皆由CPU調度,使用范圍廣。 工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體,獲得最佳鍍膜效果。 配有高位定性的飛躍真空泵

ETD-900M 磁控濺射儀

ETD-900M 磁控濺射儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-900M
  • 產地:北京
  • ETD-900M 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致。 磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點,磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。 配有高位定性的飛躍真空泵

ETD-3000 小型離子濺射儀

ETD-3000 小型離子濺射儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-3000
  • 產地:北京
  • ETD-3000型離子濺射儀外觀亮麗做工精致,旋鈕式定時器檔位清晰,手感舒適;特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩大氣,具有歐洲典雅風范;前面板上的微泄漏氣閥門可以連接多種氣體;調節濺射電流大小,成膜速度快,質量好;高壓輸出可使成膜更加牢固快速。功能控制和定時皆由CPU調度,使用范圍廣。 工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體,獲得最佳鍍膜效果。 配有高位定性的飛躍真空泵

ETD-650MS 高真空磁控濺射儀

ETD-650MS 高真空磁控濺射儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-650MS
  • 產地:北京
  • ETD-650M型磁控濺射儀是我公司研制開發的一款經濟實用的袖珍型高真空磁控濺射設備,更適合各科研及教育機構實驗室的中試驗需求。系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(強/弱磁靶)、光纖旋轉臺(定制)、直流電源、工作氣路、抽氣系統、循環水系統、膜厚監測系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。 真空系統:渦輪分子泵,抽速為300L/s 前級機械泵:抽速為4L/s,帶防返油電磁閥及油污過濾器 真空測量:采用復合真空計監測真空

ETD-900C型濺射蒸碳儀

ETD-900C型濺射蒸碳儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-900C
  • 產地:
  • ETD-900C型濺射蒸碳儀是北京意力博通技術發展有限公司針對SEM用戶研制生產的一款既能濺射金、銀、銅、鉑又能蒸發碳膜的一機多用設備。此款機器具有小巧方便操作簡單成膜效果好之優點,可以滿足廣大SEM用戶隨時樣品制備的需要。

ETD-900 型離子濺射儀

ETD-900 型離子濺射儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-900
  • 產地:
  • ETD-900 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致,旋鈕式定時器檔位清晰,手感舒適;特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩大氣,具有歐洲典雅風范;前面板上的微泄漏氣閥門可以連接多種氣體;調節濺射電流大小,成膜速度快,質量好;功能控制和定時皆由CPU調度,使用范圍廣。

ETD-800型全自動離子濺射儀

ETD-800型全自動離子濺射儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-800
  • 產地:
  • ETD-800小型離子濺射儀是專門為掃描電子顯微鏡用戶設計的全自動鍍膜設備;操作簡便,放入樣品后可一鍵搞定;數字式計數器滿足精準定時要求,特別適用對膜顆粒大小要求高的場發射掃描電子顯微鏡;外觀時尚小巧,機箱大小僅 310mm x 260mm x 115mm。

ETD-2000/3000小型離子濺射儀

ETD-2000/3000小型離子濺射儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-2000/3000
  • 產地:
  • 儀器簡介:ETD-2000/3000型離子濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的,最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實驗電極制作。技術參數:配置參數如下: 1、靶(上部電極):金:直徑:50mm,厚度:0.12mm 2、真空樣品室: 直徑:160mm,高:120mm 3、濺射面積: Ф50mm,最大放置 4、真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar 5、離子電流表: 最大電流:50mA(100mA) 6、定時器: 最長時間:900S 7、微型真空氣閥: 可連接φ3mm軟管 8、可通入氣體: 多種 9、最高電壓: -1600(-3000)DCV 10、機械泵: 2L/S主要特點:特點: 1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表,用以指示、監控儀器狀態; 2. 濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室 壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體,獲得最佳鍍膜效果; 3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘 罩“崩邊”現象; 4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經久耐用; 5. 根據電場中氣體電離特性,采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層更均 勻純凈。

ETD-2000Ⅲ 離子濺射儀

ETD-2000Ⅲ 離子濺射儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-2000Ⅲ
  • 產地:
  • 儀器簡介:ETD-2000 Ⅲ 型離子濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的,最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。他的特別之處是在一個真空室內設計安裝了三個靶。旋轉樣品臺,可以依次在同一樣品上涂覆三種材料。適用于實驗室的各種復合膜樣品制備,及非導體材料實驗電極制作。技術參數:配置參數如下:- 靶(上部電極):直徑:45mm,厚度:0.12mm - 真空樣品室: 直徑:160mm,高:120mm - 濺射面積: Ф45mm,三區域 - 真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar - 離子電流表: 最大電流:50mA - 定時器: 最長時間:900S - 微型真空氣閥: 可連接φ3mm軟管 - 可通入氣體: 多種 - 最高電壓: -1600(-3000)DCV - 機械泵: 2L/S主要特點:特點:1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表,用以指示、監控儀器狀態; 2. 濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體,獲得最佳鍍膜效果; 3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象; 4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經久耐用; 5. 根據電場中氣體電離特性,采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。

ETD-2000C 濺射蒸碳儀

ETD-2000C 濺射蒸碳儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-2000C
  • 產地:
  • 儀器簡介:ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的,最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發附件,具有濺射和蒸發兩種功能。滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備和非導體材料實驗電極制作。技術參數:配置參數如下:- 儀器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H) - 真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm(D×H) - 靶(上部電極): 50mm×0.1mm(D×H) - 樣品臺: 50mm (D) - 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar - 工作電壓: 0-1600V (DC)可調 - 濺射電流: 0-50mA - 濺射定時: 1-9999S - 蒸碳電流 0-10A(AC) - 真空泵: 2升兩級機械旋轉泵(極限真空2×10-2mbar)主要特點:在 ETD-2000離子濺射儀基礎上,增加了熱蒸發附件,可以蒸發碳絲,具有濺射和蒸發兩種功能。因此擴展了應用范圍,特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。

裕隆時代LJ-16小型離子濺射儀

裕隆時代LJ-16小型離子濺射儀

  • 品牌: 北京裕隆
  • 型號: LJ-16
  • 產地:
  • 產品描述LJ-16小型離子濺射儀由裕隆時代公司精心設計制造,是專用于掃描電鏡(SEM)的樣品噴金鍍膜系統,能夠極為有效的提高電鏡觀測效果。產品特點: 操作簡便,性能優越,質量穩定,功能豐富相比上一代產品,LJ-16小型離子濺射儀有大幅度的性能提升:◆換裝新一代真空泵,大幅降低儀器噪音。◆標配樣品室真空表和濺射電流表,實時顯示和監控儀器狀態。◆特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象。◆配置濺射電流控制器和微型真空氣閥。結合自動控制電路,輕松控制真空室壓強、電離電流,并可任意選擇所需電離氣體,以獲得最佳鍍膜效果。◆標配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸純金靶,濺射范圍更大,可同時濺射6個樣品,靶材使用時間更長。◆預設參數,一鍵操作即可完成濺射功能。工作狀態噴鍍效果應用案例:噴金前后圖像對比樣品為水泥,由于導電性不好,可以看到,(上圖)噴金前5000倍的圖像已經略顯模糊。在相同的實驗條件下,樣品用LJ-16小型離子濺射儀噴金后,圖像輕松放大45000倍(下圖),并可見非常清晰的水泥晶體結構。可見LJ-16離子濺射儀能夠極為有效的提高掃描電鏡圖像質量,為您的科研工作提供極大幫助。技術參數名稱規格名稱規格玻璃處理室內徑Ф 115mm x 高度130mm真空保護20PA配有微量充氣閥調節工作真空試樣臺尺寸內徑Ф 40mm, 可同時放六個樣品杯工作媒介氣體空氣或氬氣,配有氬氣專用進氣和微量充氣調節金靶尺寸Ф58mm X 0.12mm 定時開關控制濺射時間,范圍為10~110S真空系統直聯旋片真空泵 2L/秒可用靶材金靶,鉑靶,鎳靶真空檢測皮氏計產品尺寸400mm X 500mm X 400mm(帶玻璃罩)工作電源220 VAC 50Hz客戶服務裕隆時代擁有一支涉及眾多領域高素質的應用支持團隊,向客戶提供完整的實驗室解決方案和良好的售后服務。我們承諾24小時內對客戶需求做出反應。專業勤奮的銷售隊伍,隨時為您提供咨詢服務。經驗豐富的專家隊伍,為您答疑解惑,拓展您的應用領域,提升客戶應用水平。勤勉敬業的售后團隊,向您提供專業及時的售后服務,解決您的后顧之憂。裕隆時代,您最好的選擇!

小型離子濺射儀

小型離子濺射儀

  • 品牌: 北京中科科儀
  • 型號: SBC-12
  • 產地:
  • 儀器簡介:本儀器主要適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜(金膜),儀器操作簡單方便,是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。技術指標: 玻璃處理室:∮100毫米,高度130毫米 試樣臺尺寸:∮40毫米可同時放6個樣品杯 金靶尺寸:∮58毫米 真空系統:直聯旋片真空泵2升/秒 真空檢測:皮氏計 真空保護:20Pa配有微量充氣閥調節工作真空 工作室工作媒介氣體:空氣或氬氣,配有氬氣專用進氣口和微量充氣調節 可以濺射鐵、鈷、鉺

Cressington 離子濺射儀

Cressington 離子濺射儀

  • 品牌: 英國Cressington
  • 型號: Cressington 108
  • 產地:英國
  • 英國Cressington高性能離子濺射儀系統是現階段配套掃描電鏡SEM,透射電鏡TEM,電子探針最佳的配套前級樣品處理系統以及均勻高導電率的電極薄膜制備,溢鑫科創Yi Xin Technology是Cressington在中國唯一官方授權代表,全權負責此產品在國內產品銷售,售后服務,市場推廣和授權等工作。 Cressington 108 SPUTTER COATERCressington 108/108Auto離子濺射儀是用于電鏡樣品前處理,制作電極的最先進高質量的鍍膜儀系統主要優勢功能:自動的換氣與泄氣功能,可以得到一致的膜厚,和最佳的導電噴鍍效果。通過高效低壓直流磁控頭進行冷態精細的噴鍍過程,避免樣品表面受損。操作容易快捷,可全自動或手動進行噴鍍操作,控制的參數包括自動放氣以及氬氣換氣控制。在自動模式下,可通過兩種方式進行控制鍍膜過程。可通過數字顯示器控制得到可重現的噴鍍效果。可配備MTM-10高分辨膜厚監控儀(選件)(分辨率優于0.1nm,-99.9nm到+999.9nm)數字化的噴鍍電流控制不受樣品室內氬氣壓力影響,可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果。可使用多種金屬靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd,靶材更換快速方便。技術規格:樣品倉尺寸: 120 x 120mm(高) (4.75 x 4.75"),高強度不銹鋼結構樣品臺:可放置12個標準SEM樣品座,高度可在 60mm內調節濺鍍優點:基于微處理器反饋控制,遠程電流/電壓感應;提供真空安全聯鎖裝置,最大180A,配有過流保護濺射控制:微處理器控制,安全互鎖,可調,最大電流40mA,程序化數字控制濺射頭:低電壓平面磁控管,靶材更換快速,環繞暗區護罩模擬計量:真空 Atm - 0.01mb 電流: 0 - 200A厚度監測器: MTM-10高精度厚度監測器(選配)控制方式:自動氣體換氣和泄氣功能,自動處理排序,帶有“暫停”控制的數字定時器(0-300s),自動放氣電源:200-240 VAC, 50/60Hz功率:1000VA (包括鍍碳機和真空系統)氬氣: 純度優于99.9%,壓力調節0.5-0.6 bar, 6mm連接軟管備注:為保證銷售渠道正規,配套方案先進及統一的市場管理和售后服務,英國cressington在各個國家都只設唯一授權代理,中國官方授權總代為:溢鑫科創Yi Xin Technology,詳細信息請參考英國原廠官方網站。

超高分辨多靶材離子濺射儀

超高分辨多靶材離子濺射儀

  • 品牌: 英國Cressington
  • 型號: Cressington 208HR
  • 產地:英國
  • Cressington 208HR SPUTTER COATER 超高分辨濺射鍍膜儀分子泵超高分辨鍍膜,電鏡放大倍率可到30-60萬倍也不會看到鍍膜顆粒,非常適合于現階段超高分辨場發射電鏡或雙束電鏡,電子探針等,如 FEI Nova, Megglen, Verios, Helios等, 日立電鏡的SU80000, SU8200, S4800, 9000系列等, 日本電子 7600F, 7800F等, 蔡司的Merlin, Ultra, Gemini, Auriga系列等。分子泵超高分辨鍍膜,放大倍率可到30-60萬倍也不會看到鍍膜顆粒,適用于現階段超高分辨場發射或雙束電鏡使用如FEI Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; JEOL 7600F 7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga; 為了答謝廣大中國電鏡工作者對于英國Cressington產品信賴和支持,以及對于溢鑫科創工作的配合和支持,我司和英國原廠特舉辦回饋優惠活動:凡在2015年12月30日前購置超高分辨208HR鍍膜系統,將贈送超高分辨膜厚監控儀MTM-20以及高性能旋轉傾斜行星樣品臺。專利磁控冷態噴鍍專利冷態鍍膜設計使用真正的“平衡磁控管”沒有等離子體電流在樣品,在得到高分辨非晶鍍膜層同時避免樣品受到熱損傷,對熱損傷或輻照損傷敏感樣品尤為適合廣泛的鍍層靶材選擇特殊雙極磁控管頭設計和有效的氣體離子處理使得208HR擁有廣泛多種鍍層靶材選擇全自動化設計自動的換氣與泄氣功能,濺射電流和電壓通過磁控頭的傳感線監控,蒸發源作為反饋回路中的一部分被控制保證了均勻一致的膜厚,和最佳的導電噴鍍效果。超高精度膜厚監控設計使用可選MTM-20全自動高分辨膜厚監控儀可優化設計鍍膜條件達到0.1nm膜厚可控效果多用途樣品托設計獨立的旋轉,水平和傾斜 3軸移動設計優化了多樣品以及不規則樣品的均勻一直鍍膜可變的樣品室幾何設計為了優化鍍層結構樣品室幾何設計可用于調整噴鍍速度從1.0納米每秒到0.002納米每秒廣泛的操作氣體壓力獨立的電壓,電流以及壓力回路控制系統允許可操作氬氣壓力從0.2-0.005mbar真空度緊湊型時尚桌面式設計節能,緊湊設計消除了對于樓層空間要求,水要求和專業電氣連接要求鍍膜不同多樣樣品超高分辨208HR鍍膜系統現在針對噴鍍不同電鏡樣品提供了最理想的解決方案。為了減小噴鍍晶粒尺寸影響,208HR提供一套全系列的鍍膜靶材材料和前所未有的膜厚鍍層控制條件。為了更小優化充電效果,208HR的特殊樣品臺設計和大范圍的操作壓力提供了高精度的鍍膜一致性和統一性。 高低樣品室的配置也提供了更為方便的工作距離調整。可調式旋轉傾斜水平樣品臺 超高分辨全自動膜厚監控儀 MTM-20208HR超高分辨鍍膜儀技術規格:樣品倉尺寸: 150mm 直徑, 可調高度: 165mm - 250mm,高強度不銹鋼結構濺射管頭:低電壓平面磁控管,靶材更換快速,環繞暗區護罩噴鍍靶材:鉻,鉑/鈀 標配, 金,鎢,銅,鋁,銥,銀等選配,其他材料按客戶需求提供濺鍍優點:基于微處理器反饋控制,遠程電流/電壓感應;提供真空安全聯鎖裝置,最大180A,配有過流保護,數字化可選電流(20,40,60 或80毫安)樣品臺:可放置12個標準EM樣品座,0到90度傾斜可調的旋轉水平樣品座,石英晶體探頭模擬計量:真空 Atm - 0.001mb 電流: 0 100mA控制方式: 全自動噴鍍控制,自動卸真空自動進氣功能,使用可編程電壓控制和計時數字計時 (0 300秒)以及暫停設計;全自動真空監測系統真空系統: 標配無油分子泵真空以及機械泵真空系統,泵抽速達到每秒80L,1.5分鐘內抽到真空度到1 x 10-4 mbar, 極限真空優于5 x 10-6 mbar,附帶減震臺的桌面式真空泵設計,全金屬耦合系統全自動超高分辨膜厚監控儀技術規格:MTM-20 基于微處理控制,4位顯示系統,6MHZ晶體監探器,每秒5次實時監控 MTM-20膜厚監控范圍: 0到999.9納米分辨率: 優于0.1納米密度范圍:0.50到30.00gm/cm3安裝環境要求:電源:200-240 VAC, 50/60Hz 功率:550VA氬氣要求:99.99% 純氬氣,壓力設定0.5/0.6 bar, 6.0mm管路接口設備尺寸:寬600mm, 深600mm,高450mm, 重量40kG 備注:為保證銷售渠道正規,配套方案先進及統一的市場管理和售后服務,英國cressington在各個國家都只設唯一授權代理,中國官方授權總代為:溢鑫科創Yi Xin Technology,詳細信息請參考英國原廠官方網址。

透射專用超高真空鍍碳儀

透射專用超高真空鍍碳儀

  • 品牌: 英國Cressington
  • 型號: Cressington 208C
  • 產地:英國
  • 英國Cressington是業內最知名的電鏡和電子探針配套的高性能真空鍍膜儀供應商,也是此類儀器配套方案的先驅者。自從上世紀六十年代開始,伴隨著商業掃描電鏡的普及,Cressington的配套鍍膜設備也一并研發和配套使用,并獲得科研工作者的一致好評。208C High Vacuum Turbo CARBON COATER for TEM,FESEM透射專用分子泵超高真空鍍碳儀 主要優勢:超高真空條件下使用超純的碳棒獲得超高質量鍍膜處理, 特別適合TEM(Cs), STEM 和高端場發射電鏡系統;反饋控制可以得到均勻一致鍍厚,電壓控制的碳棒具有多次蒸發能力;可選擇操作方法優化鍍膜過程,繁忙條件下可進行自動蒸發控制; 超高分辨膜厚監測儀保證超高質量可重復的鍍膜效果; 無油分子渦輪真空系統快速地使150mm樣品室達到要求的真空度; 無須水冷卻系統, 無須加熱或冷卻, 制樣周期短, 操作方便。208C樣品室: 樣品室的組件設計方式可適應多種附件使用; 獨特的標準化高/低真空壓力調節通過精密針閥完成; 高真空用于最高質量地鍍膜,如用于TEM制樣; 低真空用于TEM柵網輝光放電清潔及掃描電鏡觀察中形貌復雜樣品的鍍膜; 旋轉-傾斜臺特別為TEM樣品處理設計, 可放置25 x75mm的玻片或同時對多個樣品進行移植鍍膜處理。 備注:為保證銷售渠道正規,配套方案先進及統一的市場管理和售后服務,英國cressington在各個國家都只設唯一授權代理,中國官方授權總代為:溢鑫科創Yi Xin Technology,詳細信息請參考英國原廠官方網址:

電鏡專用高真空鍍碳儀

電鏡專用高真空鍍碳儀

  • 品牌: 英國Cressington
  • 型號: Cresstington 108C
  • 產地:英國
  • 108C Carbon/A Auto CARBON COATER 電鏡專用高真空鍍碳儀 英國Cressington是業內最知名的電鏡和電子探針配套的高性能真空鍍膜儀供應商,也是此類儀器配套方案的先驅者。自從上世紀六十年代開始,伴隨著商業掃描電鏡的普及,Cressington的配套鍍膜設備也一并研發和配套使用,并獲得科研工作者的一致好評。Features優勢說明:源自1973年英國先進的電鏡配套鍍膜工藝,60多年專業技術及全球5000名科研工作者的信賴; 獨特的受反饋控制的碳棒蒸發系統可以在膜厚為20nm左右進行多次蒸發,無須切削或調整碳棒形狀;108C中使用的高純碳棒可以在高倍下得到高質量的鍍膜效果,以便進行電鏡成像和能譜儀X射線EDS或EBSD分析; 使用新型的蒸發裝置:電流和電壓通過磁控頭傳感監控,蒸發源作為反饋回路一部分被控制,該蒸發裝置使常規碳棒具有優良的鍍膜穩定性和重現性; 自動模式下,蒸發源按程序設定進行鍍膜,手動模式下,獨特的設計允許以脈沖或連續方式操作,并通過旋鈕控制輸出電壓 Specification技術規格: 樣品倉尺寸 120 mm x 120mm, 高強度不銹鋼結構 樣品臺 可放置12個標準SEM樣品座,高度可在 60mm內調節 濺鍍材料 Bradley 型高純度碳棒, 無需削減或調整濺鍍優點 基于微處理器反饋控制,遠程電流/電壓感應;提供真空安全聯鎖裝置,最大180A,配有過流保護 模擬計量 真空Atm - 0.001mb,電流: 0 - 200A 控制方式 自動蒸鍍控制,使用可編程電壓控制和計時;可選擇手動操作或自動控制數字計時 (0 30秒),數字電壓設定 (0.1 to 6.0V) 膜厚監控儀MTM-10高精度膜厚監控儀(選配) 工作電壓220V, 50/60HZ 適用配套FEI, Phenom, Zeiss, JEOL, Hitachi, Tescan等掃描電鏡系統 備注:為保證銷售渠道正規,配套方案先進及統一的市場管理和售后服務,英國cressington在各個國家都只設唯一授權代理,中國官方授權總代為:溢鑫科創Yi Xin Technology

離子濺射儀

離子濺射儀

  • 品牌: 英國Cressington
  • 型號: Cressington 108Auto
  • 產地:英國
  • 英國Cressington高性能離子濺射儀系統是現階段配套掃描電鏡SEM,透射電鏡TEM和電子探針最佳的配套前級樣品處理系統以及均勻高質量的電極薄膜制備,溢鑫科創Yi Xin Technology是Cressington在中國唯一官方授權代表,全權負責此產品在國內產品銷售,售后服務,市場推廣和授權等工作。               Cressington 108 Auto/ Manual SPUTTER COATER Cressington 108/108Auto離子濺射儀是用于電鏡樣品前處理,制作電極的最先進高質量的鍍膜儀系統主要優勢功能:自動的換氣與泄氣功能,可以得到一致的膜厚,和最佳的導電噴鍍效果。通過高效低壓直流磁控頭進行冷態精細的噴鍍過程,避免樣品表面受損。操作容易快捷,可全自動或手動進行噴鍍操作,控制的參數包括自動放氣以及氬氣換氣控制。在自動模式下,可通過兩種方式進行控制鍍膜過程。可通過數字顯示器控制得到可重現的噴鍍效果。可配備MTM-10高分辨膜厚監控儀(選件)(分辨率優于0.1nm,-99.9nm到+999.9nm)數字化的噴鍍電流控制不受樣品室內氬氣壓力影響,可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果。可使用多種金屬靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd,靶材更換快速方便。技術規格:樣品倉尺寸: 120 x 120mm(高) (4.75 x 4.75"),高強度不銹鋼結構樣品臺:可放置12個標準SEM樣品座,高度可在 60mm內調節濺鍍優點:基于微處理器反饋控制,遠程電流/電壓感應;提供真空安全聯鎖裝置,最大180A,配有過流保護 濺射控制:微處理器控制,安全互鎖,可調,最大電流40mA,程序化數字控制濺射頭:低電壓平面磁控管,靶材更換快速,環繞暗區護罩模擬計量:真空 Atm - 0.01mb 電流: 0 - 200A厚度監測器: MTM-10高精度厚度監測器(選配)控制方式:自動氣體換氣和泄氣功能,自動處理排序,帶有“暫停”控制的數字定時器(0-300s),自動放氣電源:200-240 VAC, 50/60Hz 功率:1000VA (包括鍍碳機和真空系統)氬氣: 純度優于99.9%,壓力調節0.5-0.6 bar, 6mm連接軟管 備注:為保證銷售渠道正規,配套方案先進及統一的市場管理和售后服務,英國cressington在各個國家都只設唯一授權代理,中國官方授權總代為:溢鑫科創Yi Xin Technology,詳細信息請參考英國原廠官方網站信息。

磁控濺射儀JS-1600M

磁控濺射儀JS-1600M

  • 品牌: 北京和同創業
  • 型號: JS-1600M
  • 產地:
  • 一、產品應用:JS-1600M型磁控濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的,最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實驗電極制作。二、配置及技術指標:1.本系統裝配了水冷卻磁控靶,靶面直徑為50mm2.主機規格:L360mm*W300mm*H380mm3.靶(上部電極):金:直徑:50mm,厚度:0.1mm4.真空樣品室: 直徑:160mm,高:120mm5.濺射面積: Ф50mm 6.真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar7.離子電流表: 最大電流:100mA8.定時器: 最長時間:3600S9.微型真空氣閥: 可連接φ3mm軟管10.可通入氣體: 多種11.最高電壓: -1600 DCV12.機械泵: 2L/S三、產品特點1.輕便、濺射面積大2.可以濺射鉑、金及銀等金屬3.濺射效率高,可水冷降溫

小型離子濺射儀

小型離子濺射儀

  • 品牌: 北京和同創業
  • 型號: JS-1600
  • 產地:
  • 儀器簡介: 本儀器主要適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍膜導電膜(金膜),儀器操作簡單方便, 是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。技術參數:1.靶(上部電極):材料:金,直徑:50mm,厚度:0.1mm 純度:99.999%2、真空室:直徑:160mm,高:110mm3.樣品臺(下部電極):濺射面積:直徑:50mm4.工作真空: 2×10-110-1 mbar5.離子電流表:最大電流:50mA6.計時器:根據濺射習慣設定單次濺射時間。7.最高電壓:-1600DVC8.機械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介氣體:空氣或氬氣,10.真空氣閥: 配有氬氣專用進氣口和微量充氣調節,可連接φ4*2.5mm軟管。主要特點: 輕便、濺射面積大 靶材可按用戶要求加工制作

ETD-800C 熱蒸發鍍膜儀

ETD-800C 熱蒸發鍍膜儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-800C
  • 產地:北京
  • ETD-800C型熱蒸發鍍膜儀把待鍍膜的基片或工件置于真空室內,通過對鍍膜材料加熱使其蒸發氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。

ETD-900C 濺射蒸發儀

ETD-900C 濺射蒸發儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-900C
  • 產地:北京
  • ETD-900C 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致,是北京意力博通技術發展有限公司針對SEM用戶研制生產的一款既能濺射金、銀、銅、鉑又能蒸發碳膜的一機多用設備。此款機器具有小巧方便操作簡單成膜效果好之優點,可以滿足廣大SEM用戶隨時樣品制備的需要。 工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體,獲得最佳鍍膜效果。 配有高位定性的飛躍真空泵

108離子濺射噴金儀

108離子濺射噴金儀

  • 品牌: 美國泰德派勒
  • 型號: 108手動
  • 產地:美國
  • 特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。

108auto 離子濺射噴金儀

108auto 離子濺射噴金儀

  • 品牌: 美國泰德派勒
  • 型號: 108自動
  • 產地:美國
  • 特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。低電壓平面磁控管,靶材更換快速,環繞暗區護罩,具有濺射擋板保護濺射頭。

濺射設備 MVS

濺射設備 MVS

  • 品牌: 美國MVSystems
  • 型號: MVS-sputter
  • 產地:美國
  • 濺射設備 MVSMVS提供單靶材或多靶濺射設備。可根據用戶需求定制。制備透明導電薄膜 (如ITO,AZO)。 MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)創建于1989年。曼登博士曾在英國丹迪大學從師于斯皮爾(Walter Spear)教授,是1970年代最早從事非晶硅材料和器件研究的人員之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶體管(TFT)方面進行了開創性的研究,這是他的博士論文的主要內容之一。非晶硅薄膜晶體管現已成為平板顯示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半導體技術和先進的高真空半導體薄膜沉積設備方面擁有14項專利,包括:多腔室PECVD沉積系統 主要產品 用于柔性襯底的Reel-to-reel多室系統 - 主要產品碳熱絲化學氣相沉積設備 摻氟納米硅(微晶硅)材料P型寬帶隙非晶硅材料 摻氟二氧化錫絨面透明導電膜(與日本Asahi公司合作)公司生產制造的80多臺設備已銷往全世界23個國家和地區。公司生產的主要薄膜材料和器件產品包括:材料器件非晶硅(a-Si:H)薄膜硅太陽電池納米(微晶)硅 (nc-Si)薄膜晶體管氮化硅(SiNx),氧化硅(SiOx),氮氧化硅(SiON)成像器件氧化鋅(AZO),銦錫氧化物(ITO), 二氧化錫(SnO2)X光探測器MVSystems公司設計,制造和提供各類單腔室和多腔室薄膜沉積設備。另外,根據用戶的需求,各種PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以單個制造,也可配備到現有的團簇型(星型)或是直線型沉積系。我們公司的工程設計部門盡可能為用戶著想,以使用戶們獲取他們最需要的且價格合適的設備。

馳奔GC系列小型離子濺射儀

馳奔GC系列小型離子濺射儀

  • 品牌: 北京馳奔
  • 型號: GC系列
  • 產地:
  • 【簡介】 馳奔-E系列掃描電鏡,高真空模式或高分辨模式,要求樣品必須導電良好,否則樣品表面荷電造成圖像缺陷和分辨率惡化。對于非導電樣品,表面導電膜層制備,最常使用濺射金屬導電膜層。常用貴金屬如Au、Pt、Au/Pd合金,獲的細小晶粒的精細膜層。 馳奔GC系列離子濺射儀,可滿足各種材料的濺射鍍膜、各種掃描電鏡額濺射鍍膜。為客戶提供正確解決方案。【特點】 ● 多種靶材可供可選 ● 兩種普通直流和磁控濺射模式可選 ● 大型玻璃工作室,濺射過程中真空穩定,濺射電流穩定,濺射膜層均勻。 ● 可以實現冷濺射,無樣品熱損傷。 ● 可選擇旋轉樣品臺、可傾斜旋轉臺。確保極度粗糙表面,球形顆粒獲得良好鍍膜。【技術指標】真空樣品室: 直徑:160mm,高:120mm樣品臺及工作距離:高配旋轉樣品臺,簡配固定樣品臺,高度手動調節濺射面積: Ф50mm,最大放置真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar離子電流表: 最大電流:50mA/100mA高壓:-1200V/ -3000V定時器: 最長時間:1~3600S真空度手動控制:微型真空氣閥,可連接φ3mm軟管可通入氣體: 多種、機械泵: 2L/S (120L/min)

馳奔DESK-V小型離子濺射儀

馳奔DESK-V小型離子濺射儀

  • 品牌: 北京馳奔
  • 型號: DESK-V
  • 產地:美國
  • DESK-V TSC型小型離子濺射儀,采用磁控濺射方式,廣泛用場發射掃描電鏡或透射電鏡樣品制備或高質量鍍膜試驗。采用專利的陽極保護柵網,實現鍍膜過程中樣品表面保持常溫狀態,沒有熱損傷。該濺射儀具有樣品等離子清洗刻蝕功能,可選配蒸碳附件。主要功能:1、離子濺射鍍膜2、樣品等離子刻蝕清洗3、蒸碳鍍膜主要特點:主要特點:1、大的濺射樣品室,獲得更穩定的真空環境,鍍膜質量更高。2、對樣品無熱損傷的冷濺射。3、樣品等離子刻蝕功能,一個手動控制擋板降低樣片在刻蝕過程中受到的污染。4、基于PLC的強大控制系統,全部觸摸屏操作,可手動、半自動控制、全自動控制。5、具有高壓真空互鎖安全機制6、標準的操作軟件,實時監控各部件狀態,方便技術支持,節約用戶費用。性能指標:標準配置樣品室: φ150mm X 150mm(H) 耐熱玻璃真空室靶: 金GOLD或金鈀合金GOLD/PALLADIUM(隨機)φ50mmX0.1mm樣品臺: φ50mm 旋轉樣品臺濺射電流: 0-100mA真空規: 皮拉尼濺射氣體: 空氣或氬氣真空泵: 85L/Min 機械泵選配膜厚監控: 石英晶體膜厚監控器樣品臺: φ75mm 旋轉樣品臺 φ100mm旋轉樣品臺(選此臺,膜厚監控器無法安裝) 旋轉傾斜樣品臺 (選擇此臺,無法實現樣品刻蝕功能)蒸碳附件: 碳棒或碳絲繩

馳奔DESK-V TSC高真空小型離子濺射儀

馳奔DESK-V TSC高真空小型離子濺射儀

  • 品牌: 北京馳奔
  • 型號: Desk-V TSC
  • 產地:美國
  • DESK-V TSC型小型離子濺射儀,采用磁控濺射方式,廣泛用場發射掃描電鏡或透射電鏡樣品制備或高質量鍍膜試驗。采用專利的陽極保護柵網,實現鍍膜過程中樣品表面保持常溫狀態,沒有熱損傷。該濺射儀具有樣品等離子清洗刻蝕功能,可選配蒸碳附件。主要功能:1、精細、超精細離子濺射導電膜制備;專業級金屬膜層試驗。2、樣品等離子刻蝕清洗3、蒸碳鍍膜主要特點:1、磁控濺射速度快。對于掃描電鏡或透射電鏡制樣,抽真空-濺射-泄真空3分鐘完成。2、鍍膜質量更高,可獲得精細晶粒膜層,膜層結合力強度高。可使用結晶更細小的金屬靶材。3、對樣品無熱損傷的冷濺射。4、樣品等離子刻蝕功能,一個手動控制擋板降低樣片在刻蝕過程中受到的污染。5、基于PLC的強大控制系統,全部觸摸屏操作,可手動、半自動控制、全自動控制。6、真空高壓互鎖安全機制7、標準的操作軟件,實時監控各部件狀態,方便技術支持,節約用戶費用。性能指標:標準配置樣品室: φ150mm X 150mm(H) 不銹鋼真空室,帶觀察窗靶: 金GOLD或金鈀合金GOLD/PALLADIUM(隨機)φ50mmX0.1mm樣品臺: φ50mm 旋轉樣品臺濺射電流: 0-100mA真空規: 皮拉尼+熱電偶濺射氣體: 氬氣真空泵: 85L/Min 機械泵 Pfeiffer 70 lps渦輪分子泵 15分鐘抽到5E-6Pa 極限真空。獲得超高真空環境,提高鍍膜質量選配膜厚監控: 石英晶體膜厚監控器樣品臺: φ75mm 旋轉樣品臺 φ100mm旋轉樣品臺(選此臺,膜厚監控器無法安裝) 旋轉傾斜樣品臺 (選擇此臺,無法實現樣品刻蝕功能)蒸碳附件: 碳棒或碳絲繩

小型熱蒸發鍍膜儀

小型熱蒸發鍍膜儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-80AF
  • 產地:
  • 配置參數如下:2 儀器尺寸 : 400mm×320mm×450mm(L×W×H)2 真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 170mm×200mm(D×H)2 操作真空: 2×10-2mbar2 工作電壓: 0-10V /AC可調2 蒸碳電流 0-80A2 真空泵: 2升兩級機械旋轉泵

磁控濺射儀

磁控濺射儀

  • 品牌: 北京博遠
  • 型號: ETD-650MS
  • 產地:
  • 配置參數如下:2 儀器尺寸:600mm W x 450mm D x 750mm H2 工作腔室:硼硅酸鹽玻璃180mm Dia x 200mm H 2 真空系統: 渦輪分子泵,抽速為300L/s 前級機械泵:抽速為2L/s,帶防返油電磁閥及油污過濾器 2 真空測量:采用復合真空計監測真空2 極限真空度: 優于5×10-5Pa2 工作真空度:濺射真空度手動調整2 工作氣體:濺射工作氣體:氬氣2 工作電壓:0-800V 2 濺射電流:0-1000mA2 靶材:ф60-80mm弱磁靶2 電源:230V/50Hz(包括泵最大電流為6安培)選配項:氣體質量流量計 冷水機根據用戶要求進行功能改裝

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