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掃描電鏡/掃描電子顯微鏡

賽默飛化學分析儀器
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掃描電鏡/掃描電子顯微鏡

掃描電鏡/掃描電子顯微鏡概述

掃描電鏡/掃描電子顯微鏡是介于透射電鏡和光學顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段,可直接利用樣品表面材料的物質性能進行微觀成像。主要是利用二次電子信號成像來觀察樣品的表面形態,即用極狹窄的電子束去掃描樣品,通過電子束與樣品的相互作用產生各種效應,其中主要是樣品的二次電子發射。 目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀裝置,這樣可以同時進行顯微組織形貌的觀察和微區成分分析。
馳奔Cube-110A臺式掃描電鏡

馳奔Cube-110A臺式掃描電鏡

品牌:北京馳奔儀器
型號:Cube-110A
日立高新掃描電子顯微鏡SU3500

日立高新掃描電子顯微鏡SU3500

品牌:上海天美
型號:SU3500
韓國賽可SNE-3200M掃描電子顯微鏡

韓國賽可SNE-3200M掃描電子顯微鏡

品牌:韓國賽可
型號:SNE-3200M
日立高分辨冷場發射掃描電鏡 Regulus8100

日立高分辨冷場發射掃描電鏡 Regulus8100

品牌:日本日立
型號:Regulus8100
JSM-7610FPlus 熱場發射掃描電子顯微鏡

JSM-7610FPlus 熱場發射掃描電子顯微鏡

品牌:日本電子
型號:JSM-7610FPlus
掃描電鏡/掃描電子顯微鏡查詢條件
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掃描電鏡/掃描電子顯微鏡產品文章

掃描電鏡/掃描電子顯微鏡產品列表
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日立高新AeroSurf1500 臺式掃描電鏡

日立高新AeroSurf1500 臺式掃描電鏡

  • 品牌: 日立
  • 型號: AeroSurf1500
  • 產地:日本
  • 產品簡介日立高新AeroSurf1500 臺式掃描電鏡2016年,日立高新公司推出第一臺大氣壓下掃描電子顯微鏡AeroSurf1500,其獨特的設計可在大氣壓下得到清晰的掃描電子圖像。產品特點1、可在大氣壓(105Pa)下得到SEM圖像;2、臺式掃描電鏡設計;3、低真空下成分分析;4、優質的圖像處理控制;應用領域1、食品檢測;2、生物科技;3、刑偵醫學;4、醫藥檢測;5、環境監測。

日立臺式電鏡 TM4000/TM4000Plus

日立臺式電鏡 TM4000/TM4000Plus

  • 品牌: 日立
  • 型號: TM4000/TM4000Plus
  • 產地:日本
  • 產品簡介日立臺式電鏡 TM4000/TM4000Plus主要參數:1. 觀察條件:5kV/10kV/15kV(均四檔可調)、EDX2. 放大倍率:10×~100000×3. 觀察模式:導體(TM4000Plus)、標準模式,消除電荷模式4. 探測器:4分割背散射探測器、低真空二次電子探測器            (TM4000Plus)應用領域:生命科學材料科學化學電子制造食品工業

日立高分辨鎢燈絲掃描電鏡 SU3800

日立高分辨鎢燈絲掃描電鏡 SU3800

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU3800
  • 產地:日本
  • HexBias偏壓鎢燈絲電子槍; 優異的高、低電壓性能; 高靈敏度五分割背散射電子探測器; 可變壓力二次電子探測器(高、低真空可用)。

【Hitachi】SU9000新型超高分辨冷場發射掃描電鏡

【Hitachi】SU9000新型超高分辨冷場發射掃描電鏡

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU9000
  • 產地:日本
  • 日立2011年新推出了SU9000超高分辨冷場發射掃描電鏡,達到掃描電鏡世界最高二次電子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改進的真空系統和電子光學系統,不僅分辨率性能明顯提升,而且作為一款冷場發射掃描電鏡甚至不需要傳統意義上的Flashing操作,可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。 特點: 1. 新型電子光學系統設計達到掃描電鏡世界最高分辨率:二次電子0.4nm(30KV),STEM 0.34nm(30KV)。 2. Hitachi專利設計的E×B系統,可以自由控制SE和BSE檢測信號。 3. 全新真空技術設計使得SU9000冷場發射電子束具有超穩定和高亮度特點。 4. 全新物鏡設計顯著提高低加速電壓條件下的圖像分辨率。 5. STEM的明場像能夠調整信號檢測角度,明場像、暗場像和二次電子圖像可以同時顯示并拍攝照片。 6. 與FIB兼容的側插樣品桿提高更換樣品效率和高倍率圖像觀察效率。 項目 技術指標 二次電子分辨率 0.4nm (加速電壓30kV,放大倍率80萬倍) 1.2nm (加速電壓1kV,放大倍率25萬倍) STEM分辨率 0.34nm(加速電壓30kV,晶格象) 觀測倍率 底片輸出 顯示器輸出 LM模式 80~10,000x 220~25,000x HM模式 800~3,000,000x 2,200~8,000,000x 樣品臺 側插式樣品桿 樣品移動行程 X ±4.0mm Y ±2.0mm Z ±0.3mm T ±40度 標準樣品臺 平面樣品臺:5.0mm×9.5mm×3.5mmH 截面樣品臺:2.0mm×6.0mm×5.0mmH 專用樣品臺 截面樣品臺:2.0mm×12.0mm×6.0mmH 雙傾截面樣品臺:0.8mm×8.5mm×3.5mmH 信號檢測器 二次電子探測器 TOP 探測器(選配) BF/DF 雙STEM探測器(選配)

FEI “Quanta FEG系列” 場發射環境掃描電子顯微鏡”

FEI “Quanta FEG系列” 場發射環境掃描電子顯微鏡”

  • 品牌: 美國FEI
  • 型號: Quanta 250FEG/450FEG/650FEG
  • 產地:美國
  • 儀器簡介:QuantaFEG系列場發射環境掃描電子顯微鏡是FEI公司的最新產品之一。是在FEI公司著名產品XL30ESEM-FEG場發射環境掃描電子顯微鏡的基礎上發展而來的。QuantaFEG場發射環境掃描電子顯微鏡綜合場發射電鏡高分辨和ESEM環境掃描電鏡適合樣品多樣性的優勢,可對各種各樣的樣品(包括導電樣品、不導電樣品、含水含油樣品、加熱樣品等等)進行高分辨的靜態和動態觀察和分析。QuantaFEG和Quanta一樣具有優異的系統擴展性能,可同時安裝能譜儀、波譜儀、EBSP、陰極熒光等附件。主要特點:1.完全數字化系統控制,Windows XP操作系統2.場發射環境掃描系統兼顧高分辨和樣品多樣性3.數字電影功能可將觀察過程記錄為avi視頻文件4.穩定的大束流(最大200nA)確保高速、準確的能譜、波譜和EBSD分析5.可安裝冷臺、加熱臺、拉伸臺等進行樣品原位、動態觀察和分析技術參數:1.分辨率: 二次電子:  高真空模式 1.0nm @ 30kV; 3.0nm @ 1kV  高真空減速模式 2.3nm @ 1kV, 3.1nm @ 200V (可選項)  低真空模式 1.4nm @ 30kV; 3.0nm @ 3kV  環境真空模式 1.4nm @ 30kV 背散射電子:  高真空和低真空模式: 2.5nm @ 30kV 掃描透射STEM探測器:  0.8nm @ 30kV2.加速電壓 200V ~ 30kV, 連續可調3.高穩定性Schottky場發射電子槍4.最大束流 200nA5.樣品室壓力最高達4000Pa6.樣品臺移動范圍 Quanta 250 FEG: X=Y=50mm Quanta 450 FEG: X=Y=100mm Quanta 650 FEG: X=Y=150mm

QEMSCAN 650F巖芯、巖屑自動定量分析系統

QEMSCAN 650F巖芯、巖屑自動定量分析系統

  • 品牌: 美國FEI
  • 型號: QEMSCAN 650F
  • 產地:美國
  • 一、設備介紹QEMSCAN巖芯、巖屑分析系統是一個高速自動化的礦物參數自動定量分析系統。能對樣品進行礦物物質組成、巖石特征、成份定量、礦物嵌布特征、礦物粒級分布、礦物解離度等重要參數進行自動定量分析,主要用于石油、礦業、冶金、地質等領域。QEMSCAN系統在石油領域的應用包括:1)鉆芯、鉆削礦物組成、巖石類型分析2)鉆井數據集累3)石油、天然氣勘探4)石油、天然氣資源、藏量評估5)生產井位置選擇6)卡鉆事故預防QEMSCAN巖芯、巖屑分析系統采用FEI公司Quanta 650F 場發射環境掃描電鏡作作為最主要的硬件平臺。Quanta 650F 場發射環境掃描電鏡利用電子束激發樣品產生的二次電子、背散射電子以及X射線等信號,以獲得樣品表面形貌,結合能譜儀等分析儀器可以對微區成分進行檢測,是用于試樣的顯微形貌觀察及微區成分分析的必備手段,除氣體以外的試樣均可用掃描電鏡進行觀察。在石油天然氣領域,Quanta 650F適用于觀察非常規油氣樣品的微納米孔隙結構、大小、類型、微裂縫發育等;用于研究微納孔隙及縫隙上附著的水、油或瀝青,對巖石孔隙的含水飽和度及含油飽和度等進行研究二、QUANTA 650F多用途掃描電鏡主要參數1、電子光學1)高分辨率肖特基場發射電子槍2)加速電壓: 200 V - 30 kV3)束流: 最大200 nA并連續可調4)放大倍數: 6 x 1,000,000 x (四幅圖像顯示)2、分辨率1)30 kV下 3.0 nm(背散射探頭)2)30 kV下 1.0 nm(二次電子探頭)3)3 kV下 3.0 nm(二次電子探頭)3、檢測器1)高靈敏度、低電壓固體背散射探頭2)二次電子探頭3)樣品室紅外 CCD 相機4、真空系統1)樣品室真空度 (高真空模式) < 6e-4 Pa2)樣品室真空度(低真空模式) < 10 to 130 Pa3)樣品室真空度(環境真空模式) < 10 to 4000 Pa5、樣品室1)左右內徑 379mm2)10 mm 分析工作距離3)10個 探測器 / 附件接口4)EDS 采集角: 35°6、樣品臺1)X/Y = 150 mm2)Z = 65 mm3)Z向間隙 93.5mm4)傾斜:- 5° - + 70°5)連續旋轉 360°6)復精度: 2 μm (X/Y 方向)7)偽全對中樣品臺7、SEM 計算機Windows 7操作系統8、能譜儀1)雙硅漂移探頭2)超快速脈沖處理3)電制冷 (無需液氮)

日立臺式電鏡TM4000/TM4000Plus

日立臺式電鏡TM4000/TM4000Plus

  • 品牌: 日立
  • 型號: TM4000/TM4000Plus
  • 產地:日本
  • 日立TM4000掃描電鏡獨特的低真空系統使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。TM4000優化提供5kV、10kV、15kV三種不同電壓下的觀察模式,每種模式下電流4檔可調,并配備4分割背散射探測器,可采集四個不同方向的圖像信息,對樣品進行多種模式成像。具有全新的SEM-MAP導航功能,同時,電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉,可容納最大樣品直徑80mm,厚度50mm。TM4000Plus是在TM4000基礎上增加高靈敏度低真空二次電子探頭UVD,該探頭在低真空環境下具有很好的成像質量。TM4000Plus可將二次電子圖像和背散射電子圖像疊加并實時進行顯示,獲得最多的樣品信息。可選配附件豐富,擁有諸多附加功能。主要參數:1. 觀察條件:5kV/10kV/15kV(均四檔可調)、EDX2. 放大倍率:10×~100000×3. 觀察模式:導體(TM4000Plus)、標準模式,消除電荷模式4. 探測器:4分割背散射探測器、低真空二次電子探測器(TM4000Plus)應用領域:生命科學、材料科學、化學、電子制造、食品工業

FlexSEM 1000鎢燈絲掃描電鏡

FlexSEM 1000鎢燈絲掃描電鏡

  • 品牌: 日立
  • 型號: FlexSEM 1000
  • 產地:日本
  • FlexSEM1000是日立高新公司最新推出的一款機型小巧性能優異的鎢燈絲電鏡,擁有大束流和低球差的物鏡和聚光鏡設計,配備了高分辨率二次電子探頭及高靈敏度五分割背散射探頭,具有卓越的低真空成像能量,并且采用最新的SEM MAP高精度導航系統及最新最全的自動化功能,使性能更加優越,使用更加簡便。特點1.節能環保的設計2.高效率的自動功能3.簡捷的操作界面4.高分辨低真空觀察

SU3500鎢燈絲掃描電鏡

SU3500鎢燈絲掃描電鏡

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU3500
  • 產地:日本
  • 1.成像功能  SU3500鎢燈絲掃描電鏡所具備的新型的模擬圖像和改進后的電子光學系統以及圖像顯示算法使之能夠在低加速電壓下獲得更高的分辨率。3KV電壓時,SE圖像可達7nm,5KV電壓時,BSE圖像可達10nm。最新開發的自動多級電子槍偏壓機構能夠在不降低電子束大小的情況下,在一定范圍內的常用加速電壓下增加發射電流。因此,此款產品與S-3400N相比,噪音得以大幅減少,成像更加清晰。  通過SU3500的最新開發并優化過的圖像處理方法,現在可以很容易地在快速掃描模式下觀察到低噪聲的圖像。高速自動聚焦控制(AFC)和自動亮度及對比度控制(ABCC)的增強,使您可以縮短*2SEM(掃描電子顯微鏡)的觀察循環時間(TAT)2.低真空功能操作的優異性  新設計的真空程序使真空范圍可以達到6-650Pa,實時真空反饋允許在用戶特定的壓力設定下保持樣品室的快速的真空穩定性。在低真空模式下直接觀察更清晰。  SU3500具有一個可變壓力模式,允許對處于自然狀態下的潮濕,油膩和非導電樣品進行觀察。由于正電離子是電子束撞擊殘余氣體分子的結果,所以不需要進行傳統的樣品前處理,比如干燥和金屬鍍層。  新開發的超高靈敏度可變壓力探測器得以進一步優化,特別是在可變壓力模式下觀察超薄表面的微觀結構方面。通過同時觀察從標準BSE探測器得到的組成圖像,使得在多種應用下進行的各種各樣的分析都成為可能。振木先生以銅礦物、樹脂填料、水虱等圖像為例真實的再現了SU3500的這項功能。3.友好的用戶界面  SU3500的用戶界面使工作效率得到極大的提高。它的顯示器像素為:最大1,920×1,200像素 ,采用24.1英寸寬屏顯示器,提高了可視性和操作性,寬屏顯示器不僅使得單一模式下的顯示尺寸更大,而且還可為種用途實現多種顯示模式。用戶可以通過菜單操作選擇單幅圖像、雙幅圖像、四幅圖像以及全屏幕圖像顯示。  單幅圖像(800×600像素)的功能是便于找到視野及聚焦;雙幅圖像(800×600像素×2)可以同時顯示不同的探測器觀測到的實時SEM圖像。例如,此功能對于顯示超薄表面的微觀結構的UVD圖像和成分BSE圖像非常有效;四幅圖像(640×480像素×4)可以同時顯示不同信號的4種實時SEM圖像。例如,此功能對顯示SE圖像,BSE成分圖像,BSE形貌圖像和BSE 3D圖像非常有效;全屏幕圖像(1,280×960)大尺寸和高分辨率的實時圖像,適合多人同時觀察。信號混合功能是將同一視野內的不同信號合成到一幅畫面里的功能。例如:具有樣品表面微細結構信息的二次電子(SE)像和具有豐富的成分信息的背散射電子(BSE)像,通過合成可以在一幅畫里同時顯示樣品表面的微觀形貌和成分信息,更易于評價與解析。  顯示圖像的寬高有2種模式可以供選擇。用戶的界面可以根據用戶的應用目的選擇最佳的操作條件。對于SEM的初學者來說,可以在不具備任何技術知識的情況下很容易地操作。除了通過操作按鈕之外,諸如聚焦,放大倍率,掃描速度,亮度自動調整以及圖像都可以通過面板完成操作。嵌入式日常維護視頻文件使您能正確有效的進行日常維護。4.多功能樣品室能容納各種樣品  優中心5軸馬達驅動樣品臺主要是:1.移動X-Y,傾斜T,旋轉R,Z軸(高度)控制通過軌跡球(操縱桿為選配),鼠標和輸入數值控制。2.X-Y軸移動步幅控制通過點擊可以實現每一個指定距離的移動。對于觀察等間隔的圖形有效。3.與Z軸聚焦點聯動的高度軸自動調整。即使當Z軸位置改變時,圖形也將隨時保持聚焦狀態。4.優中心傾斜,旋轉。從現在的觀察位置傾斜,旋轉樣品時,圖形不會大幅地偏離視野。5.觀察位置的圖形顯示。此功能可把樣品和物鏡的相對位置在一個圖形上顯示出來。  圖像導航允許操作者使用一個低倍率的SEM圖像和光學范圍的圖像,或者數字圖像(可用的文件格式是BMP,JPEG和TIFF)瀏覽樣品尋找視野。  RISM:通過點擊其位置,可以把感興趣的部分移動到屏幕中心位置。ZOOM:通過拖動將感興趣的點框起來,然后被框起來的區域將自動居中并擴大。  樣品臺移動到某抓圖位置,即使選擇最后拍攝的100張圖像中的任何一幅,都可以重現其樣品臺坐標。  樣品座/真空系統:支持多種觀察的樣品座:有適用于14和33(12.7毫米樣品托)個樣品的多用途樣品座。還有為特定目的而準備的樣品座。擇樣品托號碼,按移動鍵即可將選好的位置移動到畫面中心。  SU3500在真空系統的閥門上采用可靠性高的氣動閥。該氣動閥在遭遇意外停電時可瞬間關閉。因此可以防止主機和樣品室的真空劣化。一般帶有低真空功能的電鏡需要2臺機械泵,而SU3500則只要一臺即可。

Regulus8100冷場發射掃描電鏡

Regulus8100冷場發射掃描電鏡

  • 品牌: 日立
  • 型號: Regulus8100
  • 產地:日本
  • 主要特點:1. 配備加速電壓減速功能,優秀的低加速電壓成像能力,1kV分辨率可達1.1nm2. 日立專利E×B技術,無需噴鍍,可直接觀測不導電樣品3. 配備電子槍內置加熱器,物鏡光闌具有自清潔功能4. SE與BSE任意比例搭配功能應用領域:1. 納米材料2. 半導體器件3. 高分子材料4. 生物醫學5. 新能源

IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini

IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini

  • 品牌: 日立
  • 型號: MSP-2S/MSP-Mini
  • 產地:日本
  • IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對樣品濺射金屬靶材,為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層,方便電鏡觀察,而MSP-mini是一款體積小巧,操作簡便,無需通入特殊氣體,使用時只需設置噴鍍時間即可。主要特點:1. 陽極磁控型靶材水平裝入:極低的放電電壓減弱樣品受到的例子損傷和熱損傷;2. 浮動樣品臺設計:使電流不通過樣品,溫度上升很少,同時減弱離子碰撞引起的損傷;3. 操作簡便:通過定時器控制從真空排氣到啟動放電電壓的整個過程。 應用領域:離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

IXRF噴碳儀VC-100

IXRF噴碳儀VC-100

  • 品牌: 日立
  • 型號: VC-100
  • 產地:日本
  • IXRF噴碳儀VC-100是專為電鏡設計的噴鍍儀器,可以替代傳統的真空蒸鍍裝置。主要特點:1.用普通的自動筆芯就可作為蒸鍍碳的原材料;2.每次使用一根鉛筆芯,操作簡單,重現性好;3.可用于碳強化或制作支持膜,可以制作碳復型膜;4.可在自動鉛筆芯纏繞Pt線做Pt/C的蒸鍍或直接向SEM樣品蒸鍍Pt。 應用領域:1.對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析;2.對樣品進行蒸鍍Pt/C或直接蒸鍍Pt等金屬;3.用于TEM樣品的陰影;4.做TEM表面復型樣品。

MC1000離子濺射儀

MC1000離子濺射儀

  • 品牌: 日立
  • 型號: MC1000
  • 產地:日本
  • 日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術公司自行設計制造,針對掃描電鏡的精細高端需求而設計,適合微觀結構較復雜的樣品,尤其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。主要特點:1. 操作方便且有記憶功能,首創LCD觸摸屏控制技術,可存儲五種處理方案;2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡,從而使鍍層更均勻;3. 通過選配測量單元可實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。 應用領域:離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

ArBlade5000離子研磨儀

ArBlade5000離子研磨儀

  • 品牌: 日立
  • 型號: ArBlade5000
  • 產地:日本
  • ArBlade5000是專門針對快速或大面積加工而設計的離子研磨儀,它保留了IM4000系列的平面和截面研磨功能,同時對加工速率有了很大提升。ArBlade5000的截面加工速率達到1mm/h,截面加工寬度最大可達8mm,可以滿足更大范圍的加工需求。主要特點:1. 專業的平面和截面加工2. 全新設計的氬離子槍3. 大面積、高精度、低損傷加工

IM4000Plus離子研磨儀

IM4000Plus離子研磨儀

  • 品牌: 日立
  • 型號: IM4000Plus
  • 產地:日本
  • 日立IM4000Plus離子研磨儀利用氬離子對樣品即可以進行平面研磨,也可以進行截面切割,是對樣品進行無應力加工的理想工具,不會產生傳統的切割或機械拋光帶來的變形錯位、機械應力或劃痕污染等對樣品的形貌觀察和結構分析帶來的不利影響,通過制冷功能可以對受熱易損傷的樣品進行加工。主要特點:1. 即可進行截面切割,也可進行平面研磨2. 加工效率更高,截面約500μm/h3. 程序控制間歇式加工4. 通過制冷功能可以對受熱易損傷的樣品進行加工 應用領域:1. LED、PCB等半導體行業2. 頁巖氣3. 高分子材料案例圖:1、樣品:彩色打印用紙截面(多層結構)放大倍率:1萬倍           刀片切割方式制樣                                                           IM4000 plus離子研磨截面切割2、樣品:鋰電池隔膜截面    放大倍率:2萬倍            沒使用制冷研磨                                                                         使用制冷研磨3、樣品:金線焊接處截面           放大倍率:1萬倍             機械拋光處理后                                                             IM4000 plus離子研磨平面處理

日立新型鎢燈絲掃描電鏡 FlexSEM1000 II

日立新型鎢燈絲掃描電鏡 FlexSEM1000 II

日立超大樣品倉鎢燈絲掃描電鏡 S-3700N

日立超大樣品倉鎢燈絲掃描電鏡 S-3700N

  • 品牌: 日立
  • 型號: S-3700N
  • 產地:日本
  • - 在觀察110mm高樣品時可進行能譜分析 -樣品室設置多種接口,可安裝EDS、WDS、EBSD和CL等多種分析用附件 -高低真空一鍵切換,無需手動安裝壓差光闌

日立新型冷場發射掃描電鏡 Regulus8200系列

日立新型冷場發射掃描電鏡 Regulus8200系列

  • 品牌: 日立
  • 型號: Regulus8200系列
  • 產地:日本
  • 1.選配頂端過濾器,可實現良好的成分對比度; 2.優異的擴展功能,可附加多種功能附件。

日立高分辨冷場發射掃描電鏡 Regulus8100

日立高分辨冷場發射掃描電鏡 Regulus8100

  • 品牌: 日立
  • 型號: Regulus8100
  • 產地:日本
  • 1. 配備加速電壓減速功能,優秀的低加速電壓成像能力,1kV分辨率可達0.8nm 2. 日立專利E×B技術,無需噴鍍,可直接觀測不導電樣品

日立最新熱場掃描電鏡 SU7000

日立最新熱場掃描電鏡 SU7000

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU7000
  • 產地:日本
  • 在相同WD的條件下,可同時實現二次電子、背散射電子觀察與X射線分析 最多可同時實現6通道檢測與顯示 可配置18個附件接口

日立高分辨型雙束系統 NX5000

日立高分辨型雙束系統 NX5000

  • 品牌: 日立
  • 型號: NX5000
  • 產地:日本
  • 產品簡介日立高分辨型雙束系統 NX5000NX5000新型高分辨FIB-SEM雙束系統采用冷場發射電子槍和全新的Aquila α鏡筒,具有高分辨的觀察能力;同時大束流的離子槍和實時觀察功能使其具有超高的加工效率。獨特的第三束(Ar)加工可以避免樣品損傷,為超薄樣品和復雜的制備提供了新的解決方案,可以滿足納米材料、半導體材料、生物材料等多種樣品的快速、無損、精細加工。主要特點:1.      高分辨冷場發射電子槍,實現高分辨觀察([email protected])2.      全新的Aquila α鏡筒和多探測器實現不同觀察目的3.      大束流(100nA)、高穩定性離子槍實現快速加工4.      實時觀察、多探針系統和7軸樣品臺等技術有效防止窗簾效應5.      第三束Ar的引入實現無損和超薄樣品的加工6.      多種沉積氣體可選7.      全自動TEM樣品制備 應用領域:納米材料微加工半導體及電子元器件加工生命科學

日立全新大型鎢燈絲掃描電鏡 SU3900

日立全新大型鎢燈絲掃描電鏡 SU3900

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU3900
  • 產地:日本
  • 全自動燈絲設定和合軸; 報告導出和圖片處理; 可集成的EDS; 簡單方便的維護(燈絲更換視頻)。

【Hitachi】日立新型熱場發射掃描電鏡SU5000

【Hitachi】日立新型熱場發射掃描電鏡SU5000

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU5000
  • 產地:日本
  • 產品介紹:  日立全新一代熱場發射掃描電鏡SU5000繼承了日立半導體行業掃描電鏡CD-SEM高穩定性和易操作的特點,不僅具有強大的觀察分析能力,同時具有全新的操作體驗。SU5000既滿足了專業電鏡操作者對高分辨觀察和分析的需求,也滿足了電鏡初學者對高質量圖片的需求,是一臺操作簡便且功能強大的掃描電鏡。主要特點:? 高穩定性熱場發射電子槍? 全新的EM Wizard軟件,無需設置參數即可獲得高質量圖片? 高分辨率和強大的分析能力? 樣品適用性強:不導電樣品直接觀察(低真空功能,10-300Pa)? 全新的multi-finder功能,方便快捷的尋找樣品? 附件功能強大:拉伸臺,冷熱臺,電子束曝光,紅外CCD,離子束清潔系統等。

【Hitachi】日立高性能鎢燈絲掃描電鏡SU3500

【Hitachi】日立高性能鎢燈絲掃描電鏡SU3500

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU3500
  • 產地:日本
  • 高畫質的鎢燈絲掃描電鏡, 圖象質量更進一步。通過高畫質提升掃描電鏡的分析能力和操作性, 凝聚日立最先進科技“獨具匠心”。SU3500鎢燈絲掃描電鏡具有實現了“3kV加速電壓7nm分辨率”的全新電子光學系統, 可實現實時立體成像的“實時立體觀察功能”*1, 以及更高檢測效率的 “UVD超高靈敏度可變壓力檢測器”*1。它為觀察和分析提出了嶄新的標準。*1:自選特點低加速電壓觀察時分辨率更高,可更好地觀察樣品最表面的細微形狀和更有效地降低樣品的損壞全新設計的電子光學系統和信號處理技術實現了高速掃描和低噪音的觀察和以前的常規掃描電子顯微鏡相比*2,自動功能縮短*3了大約11秒具有在低真空時可以非常好地觀察樣品最表面的細微形狀的“UVD(超高靈敏度可變壓力探測器)”*4具有實現了實時立體成像的“實時立體觀察功能”*4(*2):和日立SEM S-3400N相比(*3):根據觀察條件的不同,時間會有變動(*4):自選規格項目描述二次電子分辨率3.0nm(加速電壓=30kV,WD=5mm高真空模式)7.0nm(加速電壓=3kV,WD=5mm高真空模式)背散射電子分辨率4.0nm(加速電壓=30kV,WD=5mm低真空模式)10.0nm(加速電壓=5kV,WD=5mm高真空模式)放大倍率5 - 300,000倍(底片倍率*5)7 - 800,000倍(顯示器顯示倍率*6)加速電壓0.3 - 30kV可變壓力范圍6 - 650Pa最大樣品尺寸直徑 200mm樣品臺X0 - 100mmY0 - 50mmZ5 - 65mmR360°T-20° - 90°可觀察區域直徑 130mm (旋轉并用)最大樣品高度80mm(WD=10mm)馬達臺5軸標配電子光學系統電子槍預對中的鎢燈絲物鏡光闌4孔可動光闌探檢測器埃弗哈特 索恩利 二次電子探測器高靈敏度半導體背散射電子檢測器EDX分析 WD10mm(取出角35°)圖像顯示操作系統Windows7*7(如有更改,恕不另行通知)圖像顯示模式全屏模式(1,280 × 960 像素)小屏模式(800 × 600 像素)雙圖像顯示(800 × 600 像素)四屏幕顯示(640 × 480像素)信號混合模式排氣系統操作全自動排氣渦輪分子泵210升/秒 × 1機械泵135L/min(162L/min,60Hz)× 1(*2):以127mm×95mm(圖像尺寸4"×5")的顯示尺寸規定倍率(*3):以345mm×259mm(像素1,280×960)的顯示尺寸規定倍率(*4):Windows是微軟公司在美國和其他國家的注冊商標

掃描電鏡 SEM JSM-6510掃描電子顯微鏡

掃描電鏡 SEM JSM-6510掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 日本電子
  • 型號: JSM-6510
  • 產地:日本
  • JSM-6510掃描電子顯微鏡 不是所有的JEOL產品能在所有的國家使用。產品性能及詳情請聯系地區 JEOL 辦事處或銷售商。謝謝。 JSM-6510A/ JSM-6510LA分析型掃描電子顯微鏡,與日本電子公司的元素分析儀(EDS),統合于一體。結構緊湊的EDS由顯微鏡主體系統的電腦控制,操作員只用一只鼠標,就可完成從圖像觀測到元素分析的整個過程。 操作窗口 直觀的操作界面的設計,簡明易懂便于迅速掌握操作。 支持多用戶 單個用戶可以根據常用功能設置相應的圖標,營造快捷的操作環境。用戶登錄時,即可加載已注冊過的設定。 同時顯示兩幅圖像 畫面上并列顯示二次電子成像和背散射電子成像這兩種實時圖像。可同時觀察樣品的形貌和組成分布。 微細結構測量 適合于多種測量功能。可在觀察圖像上直接進行測量。也可將測量結果貼至SEM圖像,保存在文件中。 標準的全對中樣品臺,能收錄三維照片 3D Sight(選配件),能夠進行平面測量和高度測量,實現立體俯視圖。 從圖像觀察到元素分析,配合連貫一條龍 分析型掃描電子顯微鏡配備兩臺監視器,一臺用于SEM圖像觀察和另一臺用于元素分析(EDS)。一只通用鼠標即可同時控制兩臺監視器。大尺寸畫面使操作更加簡便與舒適。 維護簡便 工廠預置中心燈絲,十分便于更換。因此,可長期保持穩定的高性能。此外,操作界面還能以映像形式顯示燈絲維護的步驟說明。 可信賴的真空系統 真空系統使用高性能的擴散泵保證了潔凈的高真空狀態。擴散泵內部無活動部件,體現了操作穩定,維護簡便的特色。 JSM-6510規格 保證分辨率 3.0nm(30kV) 8.0nm(3kV) 15nm(1kV) 放大倍數 5至300,000x 加速電壓 0.5kV至30kV 電子槍 工廠預對中燈絲 聚光鏡 變焦聚光鏡 物鏡 錐形物鏡 樣品臺 全對中樣品臺 X-Y 80mm-40mm Z 5mm至48mm 旋轉 360° 傾斜 -10°至+90° 排氣系統 (高真空模式) DPx1,RPx1 排氣系統 (低真空模式) DPx1,RPx2

FEI Nova Nano SEM 場發射掃描電子顯微鏡

FEI Nova Nano SEM 場發射掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 美國FEI
  • 型號: SEM 450/660
  • 產地:美國
  • 該產品是世界上第一款可以對有機材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有電荷積累的樣品和/或污染性樣品進行超高分辨表征的低真空場發射掃描電子顯微鏡(FEG-SEM)。作為FEI公司引領市場的眾多設備中最新的一員,Nova NanoSEM為用戶在納米研究、開發與生產的相關工作提供了更多的可能。Nova NanoSEM的出現為那些非導電的以及有污染的納米材料研究和開發者們帶來了新的表征手段。與NanoSEM同時發布的FEI Helix探測技術將浸入式透鏡和低真空掃描電鏡兩種技術成功地組合在一起,這在場發射掃描電鏡的歷史上還是第一次。在給用戶帶來超高分辨率的同時,還能在低真空環境下有效地抑制非導電材料的電荷積累效應。Nova NanoSEM的這種新技術還可以有效地抑制由前道樣品處理過程所引起的電子束誘導污染。除了低真空條件下二次電子和背散射電子成像以外,Nova NanoSEM還具有浸入式透鏡的技術和FEI所特有的使用電子束進行納米結構沉積的氣體化學技術,所有的這些特點使之成為納米結構與納米材料研究領域中最先進、最理想的掃描電鏡技術參數1. 分辨率高真空模式 1.0nm @ 15kV      1.8nm @ 1kV      0.8nm @ 30kV(STEM探測器)低真空模式 1.5nm @ 10kV(Helix探測器)      1.8nm @ 3kV(Helix探測器)2. 加速電壓 200V - 30kV,連續可調3. 電子束流范圍 0.3pA - 100nA, 連續可調4. 樣品臺移動范圍Nova NanoSEM 230: X=Y=50mmNova NanoSEM 430: X=Y=100mmNova NanoSEM 630: X=Y=150mm主要特點1. 超高分辨率Schottky場發射電子槍2. 全球唯一的超高分辨率低真空場發射掃描電鏡. 具有高真空和低真空(<200Pa)兩種真空模式.3. 對容易污染、容易電荷積累的納米材料和納米器件進行觀察和分析4. 完全無油真空系統5. 可選配電子束曝光、電子束誘導沉積等納米設計/加工功能6. FEI公司基于Windows XP的-xT用戶界面

FEI Quanta 650FEG掃描電鏡

FEI Quanta 650FEG掃描電鏡

  • 品牌: 美國FEI
  • 型號: Quanta 650
  • 產地:美國
  • 研究各種各樣的材料,并進行結構和成份表征,是目前對掃描電鏡的主流應用要求。FEI Quanta FEG系列靈活、通用,足以應對當今人們廣博的研究方向這一挑戰。“分析任何樣品,得到所有數據”,在Quanta FEG上可得到表面像和成份像,并可輔以多種附件來確定材料的性質和元素組成。 Quanta 50 FEG系列是基于前兩代成功的肖特基場發射環境掃描技術開發的第三代Quanta系列產品。這一系列產品用戶界面使用起來十分方便、靈活,有多種功能最大程度地發揮其使用效率,并且允許采集所有需要的數據。它是電鏡專家設計來給電鏡專家使用的儀器,性能遠不止“簡便易用”。這些功能有:特有的圖像導航功能包括蒙太奇圖像導航、鼠標雙擊樣品臺移動、鼠標拖曳放大居中功能以及其它標準的特色技術;SmartSCAN,一種智能掃描技術,能降低信號噪音,提供更好的數據;電子束減速模式,一個新的選項,將鎢燈絲掃描電鏡的低加速電壓性能提高到一個全新的水平;Nav-Cam彩色圖像導航器及新開發的探測器也大大增加了其靈活性。一、主要優點1)世界上唯一具有環境掃描技術的高分辨場發掃描電鏡2)在各種操作模式下分析導電和不導電樣品,得到二次電子像和背散射電子像3)最大程度降低樣品制備要求:低真空/環境真空技術使得不導電樣品和/或含水樣品不經導電處理即可直接成像和分析,樣品表面無電荷累積現象4)專利的“穿過透鏡”的壓差真空系統,對導電和不導電樣品都可進行EDS/EBSD分析,不管是在高真空模式或在低真空模式。穩定的大束流(最大 200 nA)確保能譜及EBSD分析工作的快速、準確5)電鏡可作為一個微觀實驗室。安裝特殊的原位樣品臺后,在從- 165 °C到1500 °C溫度范圍內,對多種樣品保持其原始狀態下進行動態原位分析6)對導電樣品,可選用減速模式得到表面和成份信息7)直觀、簡便易用的軟件,即使電鏡新手也能輕易上手二、典型應用:1、納米表征1)金屬及合金, 氧化/腐蝕, 斷口, 焊點, 拋光斷面, 磁性及超導材料2)陶瓷, 復合材料, 塑料3)薄膜/涂層地質樣品斷面, 礦物4)軟物質: 聚合物, 藥品, 過濾膜, 凝膠, 生物組織, 木材5)顆粒, 多孔材料, 纖維2、原位過程分析1)增濕/去濕2)浸潤行為/接觸角分析3)氧化/腐蝕4)拉伸 (伴隨加熱或冷卻)5)結晶/相變3、納米原型制備1)電子束曝光 (EBL)2)電子束誘導沉積(EBID)三、主要參數1、電子光學1)高分辨肖特基場發射電子槍2)優化的高亮度、大束流鏡筒3)45°錐度物鏡極靴,及“穿過透鏡”的壓差真空系統,加熱式物鏡光闌4)加速電壓: 200 V - 30 kV5)束流: 最大200 nA并連續可調6)放大倍數: 6 x 1,000,000 x (四幅圖像顯示)2、分辨率1)高真空30 kV下0.8 nm (STEM)*30 kV下1.0 nm (SE)30 kV下2.5 nm (BSE)*1 kV下3.0 nm (SE)2)高真空下減速模式*1 kV下3.0 nm (BSE)*1 kV下2.3 nm (ICD)*200 V下3.1 nm (ICD)*3)低真空30 kV下1.4 nm (SE)30 kV下 2.5 nm (BSE)3 kV下3.0 nm (SE)4)環境真空 (ESEM)30 kV下1.4 nm (SE)3、檢測器1)E-T二次電子探頭2)大視場低真空氣體二次電子探頭 (LFD)3)氣體二次電子探頭 (GSED)4)樣品室紅外CCD相機5)高靈敏度、低電壓固體背散射探頭*6)氣體背散射探頭*7)四分固體背散射探頭*8)閃爍體型背散射探頭/CLD*9)vCD (低電壓、高襯度探頭)*10)鏡筒內探頭(ICD),用于減速模式下二次電子檢測*11)電子束流檢測器*12)分析型氣體背散射探頭 (GAD)*13)STEM探頭*14)Nav-Cam 光學相機彩色成像,用于樣品導航*15)陰極熒光探測器*16)能譜*17)波譜*18)EBSD*19)極靴底部安裝四環分隔式定向型背散射電子探頭 (DBS) 4、真空系統1)1個 250 l/s 渦輪分子泵, 2個機械泵2)專利的“穿過透鏡”的壓差真空系統3)電子束在氣體區域的行程:10 mm或2 mm4)可升級成無油機械泵5)2個離子泵6)樣品室真空度 (高真空模式) < 6e-4 Pa7)樣品室真空度(低真空模式) < 10 to 130 Pa8)樣品室真空度(環境真空模式) < 10 to 4000 Pa9)典型換樣時間: 高真空模式≤ 150秒;低真空及環境真空模式≤ 270秒 (FEI標準測試程序)5、樣品室1)左右內徑379mm2)10 mm分析工作距離3)10個探測器 / 附件接口4)EDS采集角: 35°6、樣品臺1)X/Y = 150 mm2)Z = 65 mm3)Z向間隙93.5mm4)傾斜:- 5° - + 70°5)連續旋轉360°6)重復精度: 2 μm (X/Y方向)7)偽全對中樣品臺7、圖像處理器1)最大6144 x 4096像素2)圖像文件格式:TIFF (8,16 or 24 bit), BMP or JPEG3)單窗口或四窗口圖像顯示4)四活動窗口5)實時或靜態按彩色或按灰度等級信號混合6)256 幀平均或積分7)數字動畫記錄 (.avi格式)8)直方圖及圖像測量軟件9)DCFI (漂移補償積分)8、支持軟件1)SmartSCAN 智能掃描技術2)蒙太奇圖像導航3)軟件溫度控制4)FEI動畫生成工具

FEI Quanta 450FEG掃描電鏡

FEI Quanta 450FEG掃描電鏡

  • 品牌: 美國FEI
  • 型號: Quanta 450FEG
  • 產地:美國
  • 研究各種各樣的材料,并進行結構和成份表征,是目前對掃描電鏡的主流應用要求。FEI Quanta FEG系列靈活、通用,足以應對當今人們廣博的研究方向這一挑戰。“分析任何樣品,得到所有數據”,在Quanta FEG上可得到表面像和成份像,并可輔以多種附件來確定材料的性質和元素組成。一、 主要優點1) 世界上唯一具有環境掃描技術的高分辨場發射掃描電鏡2) 在各種操作模式下分析導電和不導電樣品,得到二次電子像和背散射電子像3) 最大程度降低樣品制備要求:低真空/環境真空技術使得不導電樣品和/或含水樣品不經導電處理即可直接成像和分析,樣品表面無電荷累積現象4) 專利的“穿過透鏡”的壓差真空系統,對導電和不導電樣品都可進行EDS/EBSD分析,不管是在高真空模式或在低真空模式。穩定的大束流(最大 200 nA)確保能譜及EBSD分析工作的快速、準確5) 電鏡可作為一個微觀實驗室。安裝特殊的原位樣品臺后,在從- 165 °C到1500 °C溫度范圍內,對多種樣品保持其原始狀態下進行動態原位分析6) 對導電樣品,可選用減速模式得到表面和成份信息7) 直觀、簡便易用的軟件,即使電鏡新手也能輕易上手二、 典型應用1、納米表征1)金屬及合金, 氧化/腐蝕, 斷口, 焊點, 拋光斷面, 磁性及超導材料2)陶瓷, 復合材料, 塑料3)薄膜/涂層地質樣品斷面, 礦物4)軟物質: 聚合物, 藥品, 過濾膜, 凝膠, 生物組織, 木材5)顆粒, 多孔材料, 纖維2、原位過程分析1)增濕/去濕2)浸潤行為/接觸角分析3)氧化/腐蝕4)拉伸 (伴隨加熱或冷卻)5)結晶/相變3、納米原型制備1)電子束曝光 (EBL)2)電子束誘導沉積(EBID)三、主要參數1、電子光學1)高分辨肖特基場發射電子槍2)優化的高亮度、大束流鏡筒3)45°錐度物鏡極靴,及“穿過透鏡”的壓差真空系統,加熱式物鏡光闌4)加速電壓: 200 V - 30 kV5)束流: 最大200 nA并連續可調6)放大倍數: 6 x 1,000,000 x (四幅圖像顯示)2、分辨率1)高真空30 kV下0.8 nm (STEM)*30 kV下1.0 nm (SE)30 kV下2.5 nm (BSE)*1 kV下3.0 nm (SE)2)高真空下減速模式*1 kV下3.0 nm (BSE)*1 kV下2.3 nm (ICD)*200 V下3.1 nm (ICD)*3)低真空30 kV下1.4 nm (SE)30 kV下 2.5 nm (BSE)3 kV下3.0 nm (SE)4)環境真空 (ESEM)30 kV下1.4 nm (SE)3、檢測器1)E-T二次電子探頭2)大視場低真空氣體二次電子探頭 (LFD)3)氣體二次電子探頭 (GSED)4)樣品室紅外CCD相機5)高靈敏度、低電壓固體背散射探頭*6)氣體背散射探頭*7)四分固體背散射探頭*8)閃爍體型背散射探頭/CLD*9)vCD (低電壓、高襯度探頭)*10)鏡筒內探頭(ICD),用于減速模式下二次電子檢測*11)電子束流檢測器*12)分析型氣體背散射探頭 (GAD)*13)STEM探頭*14)Nav-Cam 光學相機彩色成像,用于樣品導航*15)陰極熒光探測器*16)能譜*17)波譜*18)EBSD*19)極靴底部安裝四環分隔式定向型背散射電子探頭 (DBS)*4、真空系統1)1個 250 l/s 渦輪分子泵, 2個機械泵2)專利的“穿過透鏡”的壓差真空系統3)電子束在氣體區域的行程:10 mm或2 mm4)可升級成無油機械泵5)2個離子泵6)樣品室真空度 (高真空模式) < 6e-4 Pa7)樣品室真空度(低真空模式) < 10 to 130 Pa8)樣品室真空度(環境真空模式) < 10 to 4000 Pa9)典型換樣時間: 高真空模式≤ 150秒;低真空及環境真空模式≤ 270秒 (FEI標準測試程序)5、樣品室1)左右內徑284 mm2)10 mm分析工作距離3)8個探測器 / 附件接口4)EDS采集角: 35°6、樣品臺1)X/Y = 100 mm2)Z = 60 mm3)Z向間隙75mm4)傾斜:- 5° - + 70°5)連續旋轉360°6)重復精度: 2 μm (X/Y方向)7)偽全對中樣品臺7、樣品座1)多樣品座2)單樣品座3)通用樣品座套件*4)適用于硅片或其它特殊要求的樣品座*8、圖像處理器1)最大6144 x 4096像素2)圖像文件格式:TIFF (8,16 or 24 bit), BMP or JPEG3)單窗口或四窗口圖像顯示4)四活動窗口5)實時或靜態按彩色或按灰度等級信號混合6)256 幀平均或積分7)數字動畫記錄 (.avi格式)8)直方圖及圖像測量軟件9)DCFI (漂移補償積分)9、支持軟件1)SmartSCAN 智能掃描技術2)蒙太奇圖像導航3)軟件溫度控制4)FEI動畫生成工具

Seron臺式桌上型掃描電子顯微鏡SEM

Seron臺式桌上型掃描電子顯微鏡SEM

  • 品牌: 韓國Seron
  • 型號: AURA 100
  • 產地:韓國
  • AURA 100掃描電子顯微鏡(SEM)桌上型迷你SEM針對宏觀領域的應用及初用者1) 價格低性能高的桌上型迷你SEM超高性能臺式掃描電鏡系統2) 兩級透鏡系統自由電子束對準3) 電子束對準操作簡單4) 配備強大的測量工具和分析軟件5) 尺寸小[388(W) × 600(D) × 565(H)]6) 用戶友好型操作界面,操作簡單

Seron臺式桌上型掃描電子顯微鏡SEM

Seron臺式桌上型掃描電子顯微鏡SEM

  • 品牌: 韓國Seron
  • 型號: AURA 200
  • 產地:韓國
  • 掃描電鏡,掃描電子顯微鏡,SEM,透射電子顯微鏡,透射電鏡,場發射電子顯微鏡AURA 200掃描電子顯微鏡(SEM)桌上型迷你SEM通過SERON的由頂向下技術設計1) 具有低真空模式低成本模式2) 可獲得低KV圖像(從1KV),用于不導電樣品3) 雙縫透鏡設計減少球面像差4) 配備強大的測量工具和分析軟件5) 用戶友好型操作系統6) 尺寸小[388(W) ×600(D) × 638(H)]

Seron緊湊型掃描電子顯微鏡SEM

Seron緊湊型掃描電子顯微鏡SEM

  • 品牌: 韓國Seron
  • 型號: Seron AIS1800C
  • 產地:韓國
  • AIS1800C緊湊型掃描電子顯微鏡(SEM)學術版緊湊迷你型SEM  世界上最好的緊湊型設計的迷你型SEM,同時適用于辦公室環境1) 主動隔振系統以減小環境震動影響2) 緊湊型設計,配備輪式底盤以便移動3) 最小的安裝空間:540(W)×570(D)×1300(H)mm34) 配備ET-BSE背散射電子探測器5) 針對不導電樣品可實現低KV影像(從1kV)6) 配備功能強大的分析軟件,同時具備通用功能7) EDS探測角度25° (對于標準型EDS)

Seron臺式桌上型掃描電子顯微鏡SEM

Seron臺式桌上型掃描電子顯微鏡SEM

  • 品牌: 韓國Seron
  • 型號: AURA 100/200
  • 產地:韓國
  • AURA 100掃描電子顯微鏡(SEM)桌上型迷你SEM針對宏觀領域的應用及初用者1) 價格低性能高的桌上型迷你SEM超高性能臺式掃描電鏡系統2) 兩級透鏡系統自由電子束對準3) 電子束對準操作簡單4) 配備強大的測量工具和分析軟件5) 尺寸小[388(W) × 600(D) × 565(H)]6) 用戶友好型操作界面,操作簡單AURA 200掃描電子顯微鏡(SEM)桌上型迷你SEM通過SERON的由頂向下技術設計1) 具有低真空模式低成本模式2) 可獲得低KV圖像(從1KV),用于不導電樣品3) 雙縫透鏡設計減少球面像差4) 配備強大的測量工具和分析軟件5) 用戶友好型操作系統6) 尺寸小[388(W) ×600(D) × 638(H)]

馳奔Veritas-300plus大型掃描電鏡

馳奔Veritas-300plus大型掃描電鏡

  • 品牌: 北京馳奔
  • 型號: Veritas-300plus
  • 產地:韓國
  • 【簡介】 馳奔儀器-E系列鎢燈絲掃描電鏡,采用統一的優良電子光學技術,臺式電鏡和立式電鏡具有相同的分辨率性能和圖像質量。電子槍均可升級為亮度提高10倍的更高級的電子槍,實現納米尺度形貌快速表征。樣品臺均采用先進優中心結構,方便3D重構Veritas系列大型掃描電鏡,標準配置五軸優中心全自動樣品臺,樣品室可同時接配二次電子(SE)、背散射電子(BSE)、X射線能譜(EDS)、波譜儀(WDS)、電子背散射衍射(EBSD)、陰極熒光(CL)等探測器附件。是一款媲美歐美大型掃描電鏡,功能強大的電子顯微分析平臺,相對歐美同類產品具有很高性價比。Veritas-300plus ,二次電子 + 背散射電子雙探測器成像,具有低真空環境,是一款高效率、經濟型現代經典立式掃描電鏡。【主要特點】●專門的經濟型、拓展能力極強的大型樣品倉掃描電鏡●高分辨成像能力,滿足納米尺度快速形貌表征●五軸全自動,大批量分析測試,高效率●雙探測器,精細形貌和高分辨成分分布●樣品室等離子體消除荷電,絕緣體可直接觀察●一體化設計,可隨時移動。●可接配所有規格及高性能EDS,具有大型掃描電鏡的分析效果●優中心樣品臺、可輕易實現立體對圖像采集,重構3D形貌像。【適用范圍】: 掃描電鏡廣泛應用于冶金、機械、陶瓷、化工、半導體、電子器件、紡織、生物學等行業領域,適用于科學研究,工業產品失效分析,產品可靠性控制。先進的電子光學性能,滿足客戶從幾倍到幾十萬倍的快速觀察分析,不但具有強大的圖像處理分析功能,還能廣泛連接各種標準或者非標準探測器,拓展成為可靠的分析型電鏡,實現用戶對材料的全方位微觀分析。Veritas-300適合大批量樣品快速分析測試,需要多種分析附件原位分析,大塊樣品測試。簡便的操作控制軟件,全鼠標鍵盤操作,多種自動工具輔助獲得最佳圖像質量樣品室CCD攝像機安全監控五軸計算機導航控制,樣品坐標可存儲【安裝示意】【性能指標】型號Veritas-300plus樣品臺五軸優中心,全自動X: 120mmY: 120mmZ: 5-65mmR: 360°無限T: -20°~90°電子槍預對中鎢燈絲 三極自動偏壓加速電壓200V-30KV (最大發射電流190μA @ 30KV/最大電子槍功率:5.7W)探測器ET-SED, Semconductor Solid state Bse Detector物鏡光闌20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌分辨率4nm @30KV ( SEI) [email protected] (Bse Image)放大倍數10-300,000 X樣品室內部尺寸 230(W)x210(D)x260(H)mm ,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口最大樣品尺寸Φ210mm X 65mm工作距離0-65mm掃描光柵運動電位移 ±50μm, 電旋轉 0-360°掃描模式聚焦模式:320X240 像素 ,尺寸可變TV模式:800x 600像素 慢掃描模式,用于TV及聚焦模式。照相模式:800X600、960X720、1024x768、1600x1200、最大3200x2400像素動態聚焦,傾斜補償圖像格式JPG、TIFF、bmp、PNG真空模式高真空優于9x10-3Pa低真空范圍 10-230Pa真空系統全自動真空系統,真空高壓連鎖安全保護(高真空時間小于3分鐘)-渦輪分子泵 -旋片式機械真空泵 -電動閥門系統:真空閘板閥、電磁閥等 自動功能亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和,物鏡光闌搖擺對中軟件系統基于Win8,Virtuoso1.1專用控制軟件. 內嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。100%鼠標鍵盤操作。主機尺寸/重量800(W)x825(D)x 1500(H)mm /200kg電源單相交流 220V 、50Hz、1KW耗材附件預對中燈絲,樣品托,碳導電膠帶,導電銀膠,專用工具可選配置四象限BSED | 樣品室攝像機 | 升級LaB6/CeB6陰極 | 3D重構成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀 | WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光 |電子束曝光裝置

馳奔Veritas-300大型全自動掃描電鏡

馳奔Veritas-300大型全自動掃描電鏡

  • 品牌: 北京馳奔
  • 型號: Veritas-300
  • 產地:韓國
  • 【簡介】馳奔儀器-E系列鎢燈絲掃描電鏡,采用統一的優良電子光學技術,臺式電鏡和立式電鏡具有相同的分辨率性能和圖像質量。電子槍均可升級為亮度提高10倍的更高級的電子槍,實現納米尺度形貌快速表征。樣品臺均采用先進優中心結構,方便3D重構Veritas系列大型掃描電鏡,標準配置五軸優中心全自動樣品臺,樣品室可同時接配二次電子(SE)、背散射電子(BSE)、X射線能譜(EDS)、波譜儀(WDS)、電子背散射衍射(EBSD)、陰極熒光(CL)等探測器附件。是一款媲美歐美大型掃描電鏡,功能強大的電子顯微分析平臺,相對歐美同類產品具有很高性價比。Veritas-300 ,二次電子探測器成像,是一款高效率、經濟型傳統經典立式掃描電鏡。【主要特點】●專門的經濟型、拓展能力極強的大型樣品倉掃描電鏡●高分辨成像能力,滿足納米尺度快速形貌表征●五軸全自動,大批量分析測試,高效率●一體化設計,可隨時移動。●可接配所有規格及高性能EDS,具有大型掃描電鏡的分析效果●優中心樣品臺、可輕易實現立體對圖像采集,重構3D形貌像。【適用范圍】: 掃描電鏡廣泛應用于冶金、機械、陶瓷、化工、半導體、電子器件、紡織、生物學等行業領域,適用于科學研究,工業產品失效分析,產品可靠性控制。先進的電子光學性能,滿足客戶從幾倍到幾十萬倍的快速觀察分析,不但具有強大的圖像處理分析功能,還能廣泛連接各種標準或者非標準探測器,拓展成為可靠的分析型電鏡,實現用戶對材料的全方位微觀分析。 Veritas-300適合大批量樣品快速分析測試,需要多種分析附件原位分析,大塊樣品測試。簡便的操作控制軟件,全鼠標鍵盤操作,多種自動工具輔助獲得最佳圖像質量樣品室CCD攝像機安全監控五軸計算機導航控制,樣品坐標可存儲【安裝示意】【性能指標】型號Veritas-300樣品臺五軸優中心,計算導航,五軸全自動控制X: 120mmY: 120mmZ: 5-65mmR: 360°無限T: -20°~90°電子槍預對中鎢燈絲 三極自動偏壓加速電壓200V-30KV (最大發射電流190μA @ 30KV/最大電子槍功率:5.7W)探測器ET-SED物鏡光闌20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌分辨率4nm @30KV ( SEI)放大倍數10-300,000 X樣品室內部尺寸 230(W)x210(D)x260(H)mm ,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口最大樣品尺寸Φ210mm X 65mm工作距離0-65mm掃描光柵運動電位移 ±50μm, 電旋轉 0-360°掃描模式聚焦模式:320X240 像素 ,尺寸可變TV模式:800x 600像素 慢掃描模式,用于TV及聚焦模式。照相模式:800X600、960X720、1024x768、1600x1200、最大3200x2400像素動態聚焦,傾斜補償圖像格式JPG、TIFF、bmp、PNG真空模式高真空優于9x10-3Pa真空系統全自動真空系統,真空高壓連鎖安全保護(高真空時間小于3分鐘)-渦輪分子泵 -旋片式機械真空泵 -電動閥門系統:真空閘板閥、電磁閥等 自動功能亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和,物鏡光闌搖擺對中軟件系統基于Win8,Virtuoso1.1專用控制軟件. 內嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。100%鼠標鍵盤操作。主機尺寸/重量800(W)x825(D)x 1500(H)mm /200kg電源單相交流 220V 、50Hz、1KW耗材附件預對中燈絲,樣品托,碳導電膠帶,導電銀膠,專用工具可選配置四象限BSED | 樣品室攝像機 | 升級LaB6/CeB6陰極 | 3D重構成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀 | WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光 |電子束曝光裝置

馳奔Genesis-500Aplus小型掃描電鏡

馳奔Genesis-500Aplus小型掃描電鏡

  • 品牌: 北京馳奔
  • 型號: Genesis-500Aplus
  • 產地:韓國
  • 【簡介】 馳奔儀器-E系列鎢燈絲掃描電鏡,采用統一的優良電子光學技術,臺式電鏡和立式電鏡具有相同的分辨率性能和圖像質量。電子槍均可升級為亮度提高10倍的更高級的電子槍,實現納米尺度形貌快速表征。樣品臺均采用先進優中心結構,方便3D重構Genesis系列小型立式掃描電鏡,標準配置五軸優中心樣品臺,樣品室可同時接配二次電子(SE)、背散射電子(BSE)、X射線能譜(EDS)等探測器或附件,可拓展波譜儀(WDS)、電子背散射衍射(EBSD)、陰極熒光(CL)附件。是一款小巧、功能強大的電子顯微分析平臺。Genesis-500Aplus 采用五軸全自動優中心樣品臺,二次電子+背散射電子探測器成像,樣品室低真空環境,可直接觀察絕緣體,是一款高效率、經濟現代經典立式掃描電鏡。【主要特點】:●專門的經濟型、拓展強大的小型立式掃描電鏡●高分辨成像能力,滿足納米尺度快速形貌表征●批量分析測試,高效率●精細形貌和高分辨率成分襯度雙探測器●樣品室低真空等離子體消除絕緣樣品荷電●體型小巧,節約空間,可隨時移動。●可接配所有規格及高性能EDS,具有大型掃描電鏡的分析效果●優中心樣品臺、可輕易實現立體對圖像采集,重構3D形貌像。*精密五軸自動樣品臺專利的優中心樣品臺(多工位樣品托)簡便的操作控制軟件,全鼠標鍵盤操作,多種自動工具輔助獲得最佳圖像質量樣品室CCD攝像機安全監控五軸計算機導航控制,樣品坐標可存儲Genesis-小型立式掃描電鏡在北京奧林匹克公園國家會議中心,公開展示體驗。隨時可以移動【適用范圍】: 掃描電鏡廣泛應用于冶金、機械、陶瓷、化工、半導體、電子器件、紡織、生物學等行業領域,適用于科學研究,工業產品失效分析,產品可靠性控制。先進的電子光學性能,滿足客戶從幾倍到幾十萬倍的快速觀察分析,不但具有強大的圖像處理分析功能,還能廣泛連接各種標準或者非標準探測器,拓展成為可靠的分析型電鏡,實現用戶對材料的全方位微觀分析。Genesis-500Aplus適合批量樣品快速分析測試,適合多種分析附件原位分析,適合生物樣品,絕緣體等非到點樣品直接觀察。【安裝示意】【性能指標】型號Genesis-500Aplus樣品臺五軸優中心,計算機導航,全自動控制X: 40mmY: 40mmZ: 5-45mmR: 360°無限T: -20°~90°電子槍預對中鎢燈絲 三極自動偏壓加速電壓200V-30KV (最大發射電流190μA @ 30KV/最大電子槍功率:5.7W)探測器ET-SED, Semiconductor Solid state BseD物鏡光闌20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌分辨率4nm @30KV ( SEI) [email protected] (Bse Image)放大倍數10-300,000 X樣品室內徑φ150mm,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口最大樣品尺寸Φ96mm X 50mm工作距離0-45mm掃描光柵運動電位移 ±50μm, 電旋轉 0-360°掃描模式聚焦模式:320X240 像素 ,尺寸可變TV模式:800x 600像素 慢掃描模式,用于TV及聚焦模式。照相模式:800X600、960X720、1024x768、1600x1200、最大3200x2400像素圖像格式JPG、TIFF、bmp、PNG真空模式高真空優于9x10-3Pa樣品室低真空范圍 10-100Pa真空系統全自動真空系統,真空高壓連鎖安全保護(高真空時間小于3分鐘)-渦輪分子泵 -旋片式機械真空泵 -電動閥門系統:真空閘板閥、電磁閥等 自動功能亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和,物鏡光闌搖擺對中軟件系統基于Win8,Virtuoso1.1專用控制軟件. 內嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。100%鼠標鍵盤操作。主機尺寸/重量600(W)x623(D)x 1350(H)mm /120kg電源單相交流 220V 、50Hz、1KW耗材附件預對中燈絲,樣品托,碳導電膠帶,導電銀膠,專用工具可選配置四象限BSED | 樣品室攝像機 | 升級LaB6/CeB6陰極 | 3D重構成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀 | WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光 |電子束曝光裝置

馳奔Genesis-500A小型掃描電鏡

馳奔Genesis-500A小型掃描電鏡

  • 品牌: 北京馳奔
  • 型號: Genesis-500A
  • 產地:韓國
  • 【簡介】 馳奔儀器-E系列鎢燈絲掃描電鏡,采用統一的優良電子光學技術,臺式電鏡和立式電鏡具有相同的分辨率性能和圖像質量。電子槍均可升級為亮度提高10倍的更高級的電子槍,實現納米尺度形貌快速表征。樣品臺均采用先進優中心結構,方便3D重構Genesis系列小型立式掃描電鏡,標準配置五軸優中心樣品臺,樣品室可同時接配二次電子(SE)、背散射電子(BSE)、X射線能譜(EDS)等探測器或附件,可拓展波譜儀(WDS)、電子背散射衍射(EBSD)、陰極熒光(CL)附件。是一款小巧、功能強大的電子顯微分析平臺。Genesis-500A 采用五軸全自動優中心樣品臺,二次電子探測器成像,是一款高效率、經濟型傳統經典立式掃描電鏡。【主要特點】:●專門的經濟型、拓展強大的小型立式掃描電鏡●高分辨成像能力,滿足納米尺度快速形貌表征●批量分析測試,高效率●體型小巧,節約空間,可隨時移動。●可接配所有規格及高性能EDS,具有大型掃描電鏡的分析效果●優中心樣品臺、可輕易實現立體對圖像采集,重構3D形貌像。*精密五軸自動樣品臺專利的優中心樣品臺(多工位樣品托)簡便的操作控制軟件,全鼠標鍵盤操作,多種自動工具輔助獲得最佳圖像質量樣品室CCD攝像機安全監控五軸計算機導航控制,樣品坐標可存儲Genesis-小型立式掃描電鏡在北京奧林匹克公園國家會議中心,公開展示體驗。隨時可以移動【適用范圍】: 掃描電鏡廣泛應用于冶金、機械、陶瓷、化工、半導體、電子器件、紡織、生物學等行業領域,適用于科學研究,工業產品失效分析,產品可靠性控制。先進的電子光學性能,滿足客戶從幾倍到幾十萬倍的快速觀察分析,不但具有強大的圖像處理分析功能,還能廣泛連接各種標準或者非標準探測器,拓展成為可靠的分析型電鏡,實現用戶對材料的全方位微觀分析。Genesis-500A適合批量樣品快速分析測試,適合多種分析附件原位分析。【安裝示意】【性能指標】型號Genesis-500A樣品臺五軸優中心,全自動X:40mm |Y: 40mm | Z: 5-45mm | R:360°無限| T:-20°~90°電子槍預對中鎢燈絲 三極自動偏壓加速電壓200V-30KV (最大發射電流190μA @ 30KV/最大電子槍功率:5.7W)探測器ET-SED物鏡光闌20μm 20μm 50μm 100μm 四位可變光闌分辨率4nm @30KV ( SEI)放大倍數10-300,000 X樣品室內徑φ150mm,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探測器接口最大樣品尺寸Φ96mm X 50mm工作距離0-45mm掃描光柵運動電位移 ±50μm, 電旋轉 0-360°掃描模式聚焦模式:320X240 像素 ,尺寸可變TV模式:800x 600像素 慢掃描模式,用于TV及聚焦模式。照相模式:800X600、960X720、1024x768、1600x1200、最大3200x2400像素圖像格式JPG、TIFF、bmp、PNG真空模式高真空優于9x10-3Pa真空系統全自動真空系統,真空高壓連鎖安全保護(高真空時間小于3分鐘)-渦輪分子泵 -旋片式機械真空泵 -電動閥門系統:真空閘板閥、電磁閥等 自動功能亮度/對比度, 聚焦, 電子槍對中、偏壓、飽和,物鏡光闌搖擺對中軟件系統基于Win8,Virtuoso1.1專用控制軟件. 內嵌長度角度面積測量、圖像編輯處理工具。100%鼠標鍵盤操作。主機尺寸/重量600(W)x623(D)x 1350(H)mm /120kg電源單相交流 220V 、50Hz、1KW耗材附件預對中燈絲,樣品托,碳導電膠帶,導電銀膠,專用工具可選配置四象限BSED | 樣品室攝像機 | 升級LaB6/CeB6陰極 | 3D重構成像軟件 | 拉曼光譜 | EDS能譜儀 | WDS波譜儀 | EBSD 電子背散射衍射 | CL 陰極熒光 |電子束曝光裝置

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